[實(shí)用新型]一種磁控濺射用靶材

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120451248.1
• 申請(qǐng)日: 2011-11-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN202347088U
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-07-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 武瑞軍;田富
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 吳江南玻華東工程玻璃有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi)

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及玻璃制造，特別是，涉及一種磁控濺射用靶材。

背景技術(shù)

通常的平面式靶材的表面呈一平面,在進(jìn)行磁控濺射時(shí)，處于環(huán)形刻蝕槽位置的靶材優(yōu)先刻蝕完，而其它部位刻蝕不到，所以造成靶材的利用率只有30%左右，更換靶材的頻率就大，成本也就上升。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是提供一種利用率高的磁控濺射用靶材。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：

一種磁控濺射用靶材，包括板狀的靶材本體，所述的靶材本體上對(duì)應(yīng)于環(huán)形刻蝕槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱狀。

其中，所述的凸棱狀部分的厚度比所述的靶材本體的其他部分厚10mm。

其中，所述的凸棱狀部分向四周以斜面過(guò)渡。

其中，所述的凸棱狀部分位于該靶材的中心位置。

本實(shí)用新型的有益效果是：有效地提高了靶材的利用率，也就延長(zhǎng)了換靶周期，降低了生產(chǎn)成本，適合在磁控濺射領(lǐng)域推廣使用。

附圖說(shuō)明

附圖1為本實(shí)用新型的磁控濺射用靶材的主視示意圖；

附圖2為本實(shí)用新型的磁控濺射用靶材的側(cè)視示意圖。

附圖中：1、靶材本體；2、凸棱狀部分。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖所示的實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作以下詳細(xì)描述：

如附圖1所示，包括板狀的靶材本體1，靶材本體1上對(duì)應(yīng)于環(huán)形刻蝕槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱狀，凸棱狀部分2的厚度比靶材本體1的其他部分厚10mm，凸棱狀部分2向四周以斜面過(guò)渡，以便更好地提高該靶材的利用率，凸棱狀部分2位于該靶材的中心位置，該靶材沿長(zhǎng)度方向和寬度方向均對(duì)稱(chēng)。

本實(shí)用新型通過(guò)將平板式的靶材設(shè)計(jì)成中間后、四周薄的形式，有效地提高了靶材的利用率，延長(zhǎng)了靶材的更換周期，也就有效地降低了生產(chǎn)成本，且結(jié)構(gòu)加工簡(jiǎn)單，適于在磁控濺射領(lǐng)域內(nèi)推廣使用。

上述實(shí)施例只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并據(jù)以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。凡根據(jù)本實(shí)用新型精神所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。