[實用新型]一種磁控濺射用靶材有效
| 申請號： | 201120451248.1 | 申請日： | 2011-11-15 |
| 公開（公告）號： | CN202347088U | 公開（公告）日： | 2012-07-25 |
| 發明（設計）人： | 武瑞軍;田富 | 申請（專利權）人： | 吳江南玻華東工程玻璃有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人： | 孫仿衛 |
| 地址： | 215200 江蘇省蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 用靶材 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁控濺射用靶材，其特征在于：包括板狀的靶材本體，所述的靶材本體上對應于環形刻蝕槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱狀。
2.根據權利要求1所述的一種磁控濺射用靶材，其特征在于：所述的凸棱狀部分的厚度比所述的靶材本體的其他部分厚10mm。
3.根據權利要求1所述的一種磁控濺射用靶材，其特征在于：所述的凸棱狀部分向四周以斜面過渡。
4.根據權利要求1所述的一種磁控濺射用靶材，其特征在于：所述的凸棱狀部分位于該靶材的中心位置。
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