[實(shí)用新型]一種用于平板硅外延爐的冷卻水分配板有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120361071.6 | 申請(qǐng)日： | 2011-09-26 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN202246853U | 公開(kāi)（公告）日： | 2012-05-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 馬利行;施國(guó)政;陳凌兵 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 南京國(guó)盛電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/44 | 分類號(hào)： | C23C16/44;C23C16/24 |
| 代理公司： | 南京知識(shí)律師事務(wù)所 32207 | 代理人： | 張?zhí)K沛 |
| 地址： | 210038 江蘇*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 平板 外延 冷卻水 分配 | ||
【權(quán)利要求書(shū)】：
1.一種用于平板硅外延爐的冷卻水分配板,其特征在于：板上均勻分布的水流細(xì)孔，所述水流細(xì)孔通過(guò)以圓弧的形式密布在板盤(pán)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于平板硅外延爐的冷卻水分配板，其特征在于：均勻分布的水流細(xì)孔的孔徑直徑大小為10mm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的用于平板硅外延爐的冷卻水分配板，其特征在于：水流細(xì)孔以中心圓孔為中心分布在以150mm、220mm、300mm為半徑的圓弧上。
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
