[實用新型]一種用于清洗半導體硅片的清洗槽

有效

• 申請號: 201120353042.5
• 申請日: 2011-09-20
• 公開（公告）號: CN202238744U
• 公開（公告）日: 2012-05-30
• 發明（設計）人: 黃國勇;曹珍裕;王興鴻
• 申請（專利權）人: 宜興市環洲微電子有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 徐冬濤

技術領域

本實用新型涉及半導體工藝中硅片的清洗設備，具體地說是一種用于清洗半導體硅片的清洗槽。

背景技術

在現有工藝上，一般采用石英缸對半導體硅片進行沖洗，在沖洗前，需要將半導體硅片放入石英缸中進行沖洗，不但耗費大量的人工且效率不高，同時需要用去離子水對半導體硅片進行沖洗，增加了去離子水的成本。

發明內容

本實用新型的目的是針對現有技術的缺陷，提供一種結構簡單，清洗效率高的用于清洗半導體硅片的清洗槽。

本實用新型的目的是通過以下技術方案解決的：

一種用于清洗半導體硅片的清洗槽，它包括清洗槽本體，所述清洗槽本體的清洗區內設有漏水擱板，該漏水擱板水平設置在清洗區內的中下部；所述清洗槽本體的側壁外側設有出水閥，所述的出水閥位于漏水隔板與清洗槽本體的槽底之間的側壁上。

所述的漏水擱板上設有貫穿漏水擱板厚度的漏水孔。

所述的漏水孔呈圓形、橢圓形、方形、長方形或三角形中的一種或幾種。

所述的漏水擱板上設有豎直設置的隔離板，所述的隔離板位于漏水擱板的等分線上。

所述漏水擱板上表面一側的等分線處設有凹槽，所述的凹槽與隔離板的下端鑲嵌相連。

所述清洗槽本體的側壁上部設有提手，所述的提手對稱設置在清洗槽本體的側壁上。

所述的漏水擱板采用塑料板制成。

本實用新型相比現有技術有如下優點：

本實用新型可根據實際需要設計成尺寸大小不同的清洗槽，清洗槽內的漏水擱板上可放置兩個及兩個以上的插有半導體硅片的花籃，并縮短了半導體硅片的清洗時間和節省了去離子水的使用成本。

本實用新型結構簡單、操作方便，減少了手工操作，并提高了工作效率，適宜在半導體硅片生產中推廣使用。

附圖說明

附圖1是本實用新型的部分剖視結構示意圖；

附圖2是本實用新型的漏水隔板結構示意圖。

其中：1—清洗槽本體；2—清洗區；3—漏水擱板；4—出水閥；5—漏水孔；6—隔離板；7—凹槽；8—提手。

具體實施方式

下面結合附圖與實施例進一步闡明本實用新型，應理解這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍，在閱讀了本實用新型之后，本領域技術人員對本實用新型的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。

如圖1和圖2所示：一種用于清洗半導體硅片的清洗槽，它包括清洗槽本體1，在清洗槽本體1的清洗區2內設有塑料板制成的漏水擱板3，該漏水擱板3水平設置在清洗區2內的中下部，在漏水擱板3上設有貫穿漏水擱板3厚度的漏水孔5，漏水孔5呈圓形、橢圓形、方形、長方形或三角形中的一種或幾種；在漏水擱板3上表面一側的等分線處設有凹槽7，凹槽7內嵌入豎直設置在漏水擱板3上的隔離板6的下端，凹槽7的寬度與隔離板6的厚度相同，即隔離板6的下端嵌入凹槽7內固定設置在漏水擱板3上，以對放置在漏水擱板3上插有半導體硅片的花籃進行分隔清洗，本實用新型的附圖2展示的為可同時放置兩個花籃的漏水隔板3。在清洗槽本體1的側壁外側還設有控制去離子水流出的出水閥4，該出水閥4位于漏水隔板3與清洗槽本體1的槽底之間的側壁上；另外在清洗槽本體1的側壁上部還設有對稱設置在清洗槽本體1側壁上的提手8，以方便操作人員對清洗槽進行移動。

本實用新型在使用時，首先關閉清洗槽上的出水閥4，等待放滿去離子水；接著將酸洗完畢的插有半導體硅片的花籃放置在清洗區2內的漏水擱板3上；然后打開出水閥4，將去離子水管對準花籃之間的半導體硅片進行沖洗，因為清洗過程中使用的試劑密度都大于水，所以試劑在水中都會往下沉淀，使得試劑隨著出水閥4流出清洗槽，從而使半導體硅片達到最佳清洗效果。本實用新型可根據實際需要設計成尺寸大小不同的清洗槽，清洗槽內的漏水擱板上可放置兩個及兩個以上的插有半導體硅片的花籃，縮短了半導體硅片的清洗時間和節省了去離子水的使用成本；并且結構簡單、操作方便，減少手工操作的同時提高了工作效率，適宜在半導體硅片生產中推廣使用。

本實用新型未涉及的技術均可通過現有技術加以實現。