[實用新型]高隔離度CWDM薄膜濾光片

有效

• 申請號: 201120299252.0
• 申請日: 2011-08-17
• 公開（公告）號: CN202275171U
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 趙戰剛;范衛星;王鵬飛
• 申請（專利權）人: 奧普鍍膜技術（廣州）有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/11;B32B17/06;B32B9/04
• 代理公司: 廣州市南鋒專利事務所有限公司 44228
• 代理人: 劉媖

技術領域

本實用新型涉及一種濾光片，具體是指一種高隔離度CWDM薄膜濾光片。

背景技術

薄膜濾光片，又分為薄膜吸收濾光片和薄膜干涉濾光片兩種。前者是在特定材料基材上，用化學浸蝕或真空蒸鍍方法形成單層薄膜，使本征吸收線正好位于需要的波長處。后者是在一定片基上，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質-金屬膜，或全介質膜,構成一種低級次的、多級串聯實心法布里-珀羅干涉儀。目前，市場上的濾光片普遍存在著峰值透射率不高或者是次峰跟旁帶問題嚴重的問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于避免現有技術中的不足而提供一種高陡度通道平坦度濾光片，峰值透射率高、可以提高器件相鄰通道隔離度，將隔離度從25dB提高到46dB的高隔離度CWDM薄膜濾光片。

本實用新型的目的通過以下技術方案實現：

高隔離度CWDM薄膜濾光片，包括基板，基板的一面設有正面膜系，另一面設有反面膜系，所述的基板采用厚度為1毫米玻璃為基板，其表面平面度為光?圈N＜3，局部光圈ΔN＜0.4，表面光潔度B＝III；所述的正面膜系為基于12個法布里-珀羅串聯：Ns|HLHL?H8LHLHLHL?HLHL?H8LHLHLHL?………HLHL?H8LHLHLHL?HLHL?H8LHLHLHL0.2356H1.3526L|No，膜系中：Ns表示基板，No表示空氣，L表示厚度為λ0/4五氧化二鉭膜層，H?表示厚度為λ0/4二氧化硅膜層，中心波長λ0＝1470-1610納米；所述的反面膜系為增透膜，所述的增透膜的膜層結構如下：

層材料膜厚1Ta2O556.472SiO274.043Ta2O5201.864SiO2256.04

由于采用了上述的結構，本實用新型具有下述的有益效果：本實用新型通過法布里-珀羅腔數、串聯方式、連接層非規整控制等較好的解決高陡度濾光片通道平坦度問題，透射率可以達到98%以上，通過此濾光片可以提高器件相鄰通道隔離度，將隔離度從25dB提高到46dB。

附圖說明

利用附圖對本實用新型作進一步說明，但附圖中的實施例不構成對本實用新型的任何限制，對于本領域的普通技術人員，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據以下附圖獲得其它的附圖。

圖１是高隔離度CWDM薄膜濾光片的結構示意圖。

圖2是正面膜系和反面膜系的膜層堆積原理圖。

在圖1中包括有：1——基板、2——正面膜系、3——反面膜系。

在圖2中，A——空氣，H——高折射率介質、L——低折射率介質、G——基板。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的具體實施方式作進一步詳細的描述。