[實用新型]濺射設備

有效

• 申請號: 201120291175.4
• 申請日: 2011-08-11
• 公開（公告）號: CN202187058U
• 公開（公告）日: 2012-04-11
• 發明（設計）人: 黃秋平
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝;王瑩

技術領域

本實用新型涉及液晶顯示器制作技術領域，特別涉及一種濺射設備。

背景技術

在液晶面板的制造工藝中，金屬膜和透明導電膜通常需要通過濺射成膜的技術來實現。隨著液晶面板尺寸的加大，高世代面板生產線基板朝大尺寸方向發展，對于濺射設備的要求也越來越高。

在濺射成膜工藝中，一般采用托盤(Tray)作為玻璃基板的載體，通過托盤的承載，確保玻璃基板在濺射設備的腔體(Chamber)內完成成膜工藝和直立機械傳動。如圖4所示，濺射設備包括依次連接的承載機(Position)7、中間腔體8和換軌腔體(Traverse?Chamber)9，中間腔體8的一端與承載機7相連，另一端與換軌腔體9相連。如圖1所示，為現有技術的濺射設備的承載機的立體圖，承載機包括呈上下依次設置的磁導軌1、支架2及滾輪4，支架2位于磁導軌1和滾輪4之間，該支架2上可支撐用于設置其上的托盤3。如圖2所示，為現有技術的磁導軌1的立體圖，磁導軌1包括橫桿11和磁條12，橫桿11上安裝有三組磁條12，每組磁條12有兩個，兩個磁條12有間隙。如圖3所示，為現有技術的托盤3的立體圖，托盤3包括在其下部設置的圓柱型滑桿31以及于其上部設置的磁性部件32，磁性部件32的磁性與磁條12的磁性相反，比如，磁性部件32如果是S極，磁條12為N極，進一步包括有固定玻璃基板的支撐件和固定件。中間腔體以及換軌腔體上部均設置有磁導軌，下部設置有滾輪，且下部均有兩條軌道。在濺射成膜工藝中，首先由托盤3承載著玻璃基板水平放置在承載機的支架2上，然后控制支架2和磁導軌1由水平方向翻轉到豎直方向上，豎直的托盤3底部的滑桿31這時位于滾輪4上，然后控制磁導軌1運行至托盤3上方，使得托盤3的磁性部件32位于磁條12的間隙中，這時托盤3的底部位于滾輪4上，磁性部件32由于與磁條12的磁性相反而依靠斥力能夠無接觸的在磁條12的空隙中保持豎直狀態，然后支架2松開。托盤3在滾輪4上運行，由承載機一端運行至中間腔體，再運行到換軌腔體，換軌之后從換軌腔體運行至中間腔體再運行至承載機。

現有技術的不足之處在于，由于托盤的尺寸和重量較大，其在運行過程中不可避免的存在震動；同時由于磁導軌與滾輪在豎直方向上有個角度偏差，導致托盤與豎直方向也存在一個傾斜角度，在承載機中當托盤由水平位置翻轉至豎直位置時，以及在換軌腔室水平移動換軌后，震動幅度過大時很容易導致玻璃基板的損壞。此外在支架松開托盤并撤離之后，由于托盤與磁導軌并無接觸，托盤將不可避免的產生震動，震動幅度過大時很容易導致玻璃基板損壞，在當前玻璃基板逐漸變薄的趨勢下尤為嚴重。在換軌腔體處，托盤將有一個水平換軌動作，在換軌完成后，磁導軌翻轉置于托盤上部，會產生震動導致玻璃基板的損壞。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是如何減少托盤在濺射成膜工藝中的震動，降低玻璃基板因震動導致的損壞幾率。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型公開了一種濺射設備，包括依次連接的承載機(Position)、中間腔體和換軌腔體(Traverse?Chamber)，中間腔體的一端與承載機相連，另一端與換軌腔體相連，還包括設置在所述承載機、中間腔體和換軌腔體上的托盤；所述承載機和換軌腔體的上部均具有磁導軌，所述承載機的磁導軌的底部右端設置有卡槽，所述換軌腔體的磁導軌的底部左端設置有卡槽，所述托盤兩側的頂部設置有卡扣，所述卡槽與卡扣形成卡合固定裝置。

其中，所述卡槽以固定連接或可拆卸連接的方式安裝在磁導軌上。

所述卡扣以固定連接或可拆卸連接的方式安裝在托盤上。

所述托盤完全位于承載機中時，所述承載機的卡槽與托盤右側的卡扣的位置相對應。

所述托盤完全位于換軌腔體中時，所述換軌腔體的卡槽與托盤左側的卡扣的位置相對應。

進一步地，所述磁導軌包括橫桿，所述橫桿上安裝有若干組磁條。

所述托盤頂部具有磁性部件，所述磁性部件的極性與磁條的極性相反。

(三)有益效果

上述技術方案具有如下有益效果：通過在磁導軌的底部和托盤頂部的相應位置設置配套的卡槽和卡扣，使得托盤在承載機由水平位置翻轉至豎直位置時，以及在換軌腔體中水平換軌時，都能夠減少振幅過大，震動過多等問題，降低了玻璃基板的破碎損壞幾率。

附圖說明

圖1是濺射設備的承載機的立體圖；

圖2是濺射設備的磁導軌的立體圖；

圖3是濺射設備的托盤的立體圖；