[實用新型]一種用于超薄基底的鍍膜夾具

有效

• 申請號: 201120282987.2
• 申請日: 2011-08-05
• 公開（公告）號: CN202193840U
• 公開（公告）日: 2012-04-18
• 發明（設計）人: 程春生;班超;張欽廉;曹嘉寰;符東浩;李傳文;劉毅楠;趙浩
• 申請（專利權）人: 平湖中天合波通信科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 周濤

技術領域

本實用新型涉及光學鍍膜，特別特別是涉及到鍍膜時用的一種鍍膜夾具，尤其適合超薄基底的真空鍍膜。

背景技術

鍍膜技術通常是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的膜體。當今真空鍍膜技術及設備擁有十分寬泛的應用領域，并且在未來也擁有十分廣闊的發展前景。

真空鍍膜技術特別用在制造大規模集成電路的電學膜、數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜中。還用于制作能充分展示和應用各種光學特性的光學膜、在計算機顯示用的感光膜、在TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜、在建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜、在包裝領域用防護膜、阻隔膜。另外，在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜，在工、模具上應用的耐磨超硬膜，在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是真空鍍膜技術及設備在廣泛應用的基礎上得到的不斷發展的技術領域分支。

在通常情況下，光學鍍膜對于真空環境要求更嚴，很小的缺陷都會影響其光學性能。鍍膜前，一般需要將玻璃基底清洗或擦拭干凈至無任何灰塵和污點后，放入特定的夾具中，為了最大的利用鍍膜效率，夾具直徑和鍍膜均勻區相仿，夾取方式多采用螺絲或彈簧固定。但對于某些特定領域，如超薄基底，如采用以上方式裝夾，基底在裝夾和鍍膜過程中容易因夾具和膜層的應力而碎裂，造成鍍膜效率十分低。

發明內容

本實用新型的目的在于克服上述現有技術存在的不足，提供一種新型的用于超薄基底的鍍膜夾具。本實用新型的鍍膜夾具用于小尺寸超薄基底的大批量生產，要求能夠保護超薄基底使其安全可靠，生產效率高。

為了達到上述發明目的，本實用新型提供的技術方案如下：

一種用于超薄基底的鍍膜夾具，其特征在于，該鍍膜夾具包括有金屬底座、磁鐵柱和金屬片，所述的金屬底座和金屬片均為導磁材料制成，所述的金屬底座上設有用于放置基片的凹槽和用于放置磁鐵柱的小孔，所述的小孔位于凹槽的邊角位置，所述磁鐵柱放置小孔內以吸附在金屬底座上，所述的金屬片吸附于磁鐵柱的頂端，所述的金屬片外徑大于磁鐵柱的外徑。

在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述金屬底座上的凹槽為方形，多個方形的凹槽以方陣的形式規則排列，所述的小孔位于凹槽的頂角處。

在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，四個相鄰的方形凹槽直角頂角相對處共用一個小孔。

在本實用新型的用于超薄基底的鍍膜夾具中，所述的金屬片為圓形，其直徑大于磁鐵柱的直徑，同圓心吸附于磁鐵柱頂端的金屬片部分伸出，金屬片的伸出部分用以壓住凹槽內的基片。

基于上述技術方案，本實用新型的鍍膜夾具在超薄基底的生產過程中具有如下技術效果：

1.本實用新型的鍍膜夾具將金屬底座上制作出很多小區域的凹槽，每個凹槽中均制作小面積的基片，可實現小基片的大批量鍍膜。

2.?本實用新型的鍍膜夾具采用磁鐵的磁力吸引固定基片，基片限定在一定范圍內，基片的四周均壓有金屬片，使其不能脫離其所在的凹槽范圍，這樣鍍膜過程中基片不易被壓碎，而且因磁性吸附方式固定，整個設備拆裝十分簡單方便。

附圖說明

圖1是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結構圖。

圖2是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中磁鐵柱的結構示意圖。

圖3是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬片的結構示意圖。

圖4是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具的工作狀態示意圖。

具體實施方式

下面我們結合附圖和具體的實施案例來對本實用新型的鍍膜夾具做進一步的詳細闡述，以求更為清楚明了地理解本實用新型的結構和工作過程，但不能以此來限制本實用新型的保護范圍。

本實用新型用于超薄基底的鍍膜夾具的主要結構包括有金屬底座1、磁鐵柱2和金屬片3。

上述的金屬底座1和金屬片3均采用導磁材料制成，目的是便于磁鐵吸附。這里的導磁材料可以是鋼鐵等金屬材料，要求其可以吸引磁鐵。

金屬底座3的結構如圖1所示，圖1是本實用新型一種用于超薄基底的鍍膜夾具中金屬底座的俯視結構圖。在金屬底座3上設有凹槽11和小孔12。其中，凹槽11是為了放置基片4，小孔12則是用于放置磁鐵柱2。小孔12位于凹槽11的邊角位置，磁鐵柱2放置小孔12內以吸附在金屬底座1上。