[實用新型]促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構

有效

• 申請號: 201120272942.7
• 申請日: 2011-07-29
• 公開（公告）號: CN202167465U
• 公開（公告）日: 2012-03-14
• 發明（設計）人: 楊鐵牛;黃尊地;侯曙光;李昌明;黃輝;張祈莉;李鶴喜
• 申請（專利權）人: 五邑大學
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 方振昌

1.促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構，包括勻氣罐（1），其特征在于所述勻氣罐（1）為圓盤形開口的空腔結構，所述勻氣罐（1）上端中心位置設有進氣口（6），勻氣罐（1）的空腔內設有上勻氣盤（2），所述勻氣罐（1）的下端開口安裝有下勻氣盤（3），所述上勻氣盤（2）為弧形結構，其中凹弧面與進氣口（6）相對，所述下勻氣盤（3）上均勻分布有小孔（7），小孔（7）按所在軸向位置不同而直徑不同。

2.根據權利要求1所述的促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構，其特征在于所述上勻氣盤（2）通過兩個以上、可調整勻氣盤（2）位置的螺栓（4）連接于勻氣罐（1）。

3.根據權利要求1或2所述的促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構，其特征在于所述上勻氣盤（2）上均勻分布有2～5圈孔徑漸變的氣孔（8）。

4.根據權利要求1所述的促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構，其特征在于所述下勻氣盤（3）通過螺釘（5）連接于勻氣罐（1）的下端。

5.根據權利要求1所述的促進腔室氣流均勻的雙級組合式勻氣結構，其特征在于所述小孔（7）兩端為相對的錐形孔，兩個錐形孔頂端相連通。