[實用新型]改善光照均勻性的光刻機

有效

• 申請號: 201120258010.7
• 申請日: 2011-07-20
• 公開（公告）號: CN202133859U
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發明（設計）人: 王誠;劉慶鋒
• 申請（專利權）人: 上海先進半導體制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳亮

技術領域

本實用新型涉及半導體制造設備技術領域，具體來說，本實用新型涉及一種改善光照均勻性的光刻機。

背景技術

在半導體代工廠(Foundry)的潔凈室中，光刻機的鏡頭組(Lens)長時間經過汞燈紫外光線的光照射，鏡頭組的穿透率逐漸惡化且光照均勻性(Illumination?Uniformity)也會慢慢地變差，這是不可抗拒的因素。然而，對光照均勻性影響最大的還是環境因素。例如，潔凈室的某些環境中會含有腐蝕性氣體和非腐蝕性物質的微小顆粒，其會腐蝕鏡頭組表面，使得穿透率惡化，進而影響光刻機的光照均勻性。

對此，現有的光刻機在使用過程中為防止鏡頭組表面與環境中腐蝕性物質發生化學反應和防止鏡頭組表面出現臟污，一般通過一抽氣裝置從別處抽取空氣后吹向鏡頭組表面。事實上，一般光刻機都設有防污染和溫控(C&T)單元，其抽氣裝置從潔凈室的高架地板下抽氣，經防污染和溫控單元一般過濾后送往光刻機臺，吹向鏡頭組表面。圖1為現有技術中一個光刻機的進風管路的示意圖。如圖所示，現有的光刻機將抽氣裝置以及抽氣的進風口均設置在潔凈室的高架地板下面。然而，此處的空氣并非純凈，恰好是各種工藝過程中的酸堿物質的排風處，再加上工作人員在高架地板上走動，懸浮的微小顆粒非常多，尤其是國內的半導體代工廠的潔凈室的潔凈度還達不到極高要求。因此，由光刻機抽氣裝置抽取并吹送到光刻機的鏡頭組表面的空氣中含有很多腐蝕性氣體和非腐蝕性物質的微小顆粒，其更會腐蝕鏡頭組表面，使得穿透率惡化，進而影響光刻機的光照均勻性。

如果光刻機的光照均勻性變差了，此時對晶圓曝光，會導致晶圓上每個區域內接受到的能量不一致，從而影響到各個區域內的線寬均勻性(CD?Uniformity)。另外，由于空氣中腐蝕性氣體和非腐蝕性物質的微小顆粒太多，導致鏡頭組的光照均勻性惡化周期短，更換光學數字過濾鏡(Digital?Filter)/梯度過濾鏡(Gradient?Filter)頻率快。為了符合對工藝的要求，只有不斷地更換光學數字過濾鏡/梯度過濾鏡，才能最有效地得到符合要求的光照均勻性。而每更換一次光學數字過濾鏡/梯度過濾鏡的平均費用為8萬多人民幣，由此引起生產成本急劇增加。

發明內容

本實用新型所要解決的技術問題是一種改善光照均勻性的光刻機，能夠使吹送到光刻機鏡頭組表面的空氣達到純凈要求，保護鏡頭組不受腐蝕性氣體的腐蝕和微小顆粒的污染。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種改善光照均勻性的光刻機，位于潔凈室中，所述光刻機包括：

光刻機本體；

風管，與所述光刻機本體相連接，用于抽取空氣并將其吹送到所述光刻機的鏡頭組表面；

其中，所述風管的進風口靠近于所述潔凈室頂部的碳吸附過濾器的下方。

可選地，所述風管的進風口高度在所述潔凈室的有效層高的2/3至4/5之間。

可選地，所述光刻機為步進式或步進掃描式光刻機。

與現有技術相比，本實用新型具有以下優點：

本實用新型將光刻機風管的進風口抬高設置在靠近潔凈室頂部的碳吸附過濾器的下方，此處的空氣污染較少，吹送到鏡頭組表面的空氣可以達到純凈要求，保護了鏡頭組不受太多腐蝕性氣體的腐蝕和微小顆粒的污染。

本實用新型與現有技術相比，在改造之后光照均勻性數據變化非常穩定，大大提高了產品的良率，同時每年可以節省下更換光學數字過濾鏡/梯度過濾鏡的大量費用，降低了生產成本。

附圖說明

本實用新型的上述的以及其他的特征、性質和優勢將通過下面結合附圖和實施例的描述而變得更加明顯，其中：

圖1為現有技術中一個光刻機的進風管路的示意圖；

圖2為本實用新型一個實施例的改善光照均勻性的光刻機的進風管路的示意圖。

具體實施方式

下面結合具體實施例和附圖對本實用新型作進一步說明，在以下的描述中闡述了更多的細節以便于充分理解本實用新型，但是本實用新型顯然能夠以多種不同于此描述地其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本實用新型內涵的情況下根據實際應用情況作類似推廣、演繹，因此不應以此具體實施例的內容限制本實用新型的保護范圍。