[實(shí)用新型]改善光照均勻性的光刻機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120258010.7
• 申請日: 2011-07-20
• 公開（公告）號: CN202133859U
• 公開（公告）日: 2012-02-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王誠;劉慶鋒
• 申請（專利權(quán)）人: 上海先進(jìn)半導(dǎo)體制造股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陳亮

1.一種改善光照均勻性的光刻機(jī)，位于潔凈室中，其特征在于，所述光刻機(jī)包括：

光刻機(jī)本體；

風(fēng)管，與所述光刻機(jī)本體相連接，用于抽取空氣并將其吹送到所述光刻機(jī)的鏡頭組表面；

其中，所述風(fēng)管的進(jìn)風(fēng)口靠近于所述潔凈室頂部的碳吸附過濾器的下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述風(fēng)管的進(jìn)風(fēng)口高度在所述潔凈室的有效層高的2/3至4/5之間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻機(jī)，其特征在于，所述光刻機(jī)為步進(jìn)式或步進(jìn)掃描式光刻機(jī)。