[實(shí)用新型]藍(lán)寶石單晶長晶爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120257053.3 | 申請日: | 2011-07-20 |
| 公開(公告)號: | CN202226961U | 公開(公告)日: | 2012-05-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 莊育豐 | 申請(專利權(quán))人: | 莊育豐 |
| 主分類號: | C30B15/26 | 分類號: | C30B15/26;C30B15/20;C30B29/20 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228 | 代理人: | 秦士魁 |
| 地址: | 中國臺灣桃園*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 藍(lán)寶石 單晶長晶爐 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種藍(lán)寶石單晶長晶爐,屬單晶藍(lán)寶石成長技術(shù)領(lǐng)域,特別是指一種適用于成長如單晶藍(lán)寶石晶體等各種氧化物人工晶體的成長燒結(jié)爐結(jié)構(gòu),具有避免設(shè)于真空爐體外部裝置受損的功效。
背景技術(shù)
目前,氧化物人工晶體于現(xiàn)代科技產(chǎn)品的運(yùn)用十分重要,以單晶藍(lán)寶石晶體運(yùn)用于光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)光二極管(LED)為例,氮化鎵(GaN)的材料研究也已超過二十年,但一直因?yàn)闆]有晶格常數(shù)配合的基板(Substrate),所以晶體長不好,并且p型氮化鎵不易制成,所以進(jìn)展緩慢,這些問題一直到1983年,日本的田貞史博士(S.Yoshida)等人用氮化鋁(AlN)在藍(lán)寶石(Sapphire)基板上先用高溫成長做緩沖層,再在其上生長氮化鎵時(shí),結(jié)晶較好,之后名古屋大學(xué)的赤崎勇教授(I.Akasaki)等人發(fā)現(xiàn)以有機(jī)金屬氣相沉積法(MOCVD或OMVPE)均勻的在低溫(約600℃)長一層薄的氮化鋁,再在其上以高溫(約1000℃左右)成長氮化鎵可以得到像鏡面的材料。1991年日亞公司(Nichia?Co.)研究員中村修二(S.Nakamura)改用非晶體氮化鎵以低溫先成長為緩沖層(Buffer?Layer),再以高溫成長氮化鎵時(shí),亦得到鏡面般平坦的膜。另一個(gè)如何做p-GaN的問題也獲得突破,1989年赤崎勇教授等人首先將鎂(Mg)摻雜在氮化鎵里使其成長,長成后進(jìn)行電子束照射得到p型氮化鎵,后來日亞公司的中村修二發(fā)現(xiàn)電子束不過是使氮化鎵的溫度升高,使Ma-H中的氫分離而鎂受子被活性化產(chǎn)生低阻抗的氮化鎵,他發(fā)現(xiàn)如果以700℃左右的熱退火也可將氫趕走,使鎂活性化而完成p型的工作。利用以上二個(gè)發(fā)現(xiàn),日亞公司1993年宣布成功開發(fā)亮度一燭光(Cd)的GaN藍(lán)光發(fā)光二極管(LED),壽命長達(dá)數(shù)萬小時(shí)。此消息發(fā)表后,立刻引起全世界的注意,目前全球各地已有很多團(tuán)體在研究此類材料的制造、性質(zhì)及應(yīng)用。
再者,由于藍(lán)寶石基板(氧化鋁單晶)的晶格與氮化鎵非常接近,是非常適合的基板材料,故藍(lán)寶石基板的長成技術(shù)也就格外的重要了。生產(chǎn)藍(lán)寶石基板主要的關(guān)鍵技術(shù)在于2050℃高溫中將氧化鋁粉末熔化及生長晶體。本實(shí)用新型申請人先前提出藍(lán)寶石長晶方法,其主要是將氧化鋁(Al2O3)粉末經(jīng)研磨至超威粉體顆粒,再經(jīng)去蕪存菁提純至99.999%以上、噴霧造粒、添加有機(jī)黏結(jié)劑、壓模、進(jìn)真空特高溫爐先預(yù)燒成半熟氧化鋁塊后,再加熱至溶湯狀態(tài),直至長晶完成并固化、冷卻、收縮成單晶藍(lán)寶石,具有節(jié)省單晶藍(lán)寶石長晶時(shí)間、成本較低、晶體質(zhì)量和尺寸不受限制,且質(zhì)量能滿足光學(xué)、半導(dǎo)體、通訊等組件的高性能要求等功效。但是,公知的人工晶體成長爐,其熱場【熱場(hot-zone)是指構(gòu)成在成長爐真空室內(nèi)形造晶體生長所需要的適當(dāng)熱及氣體流條件所用的裝備,一般熱場包括例如盛裝熔液所用的坩堝、一個(gè)或數(shù)個(gè)不同型式的加熱器以及環(huán)繞坩堝及加熱器而設(shè)的熱絕緣體】的高溫?zé)o法僅靠絕緣裝置完全阻絕于爐內(nèi),釋出的高溫會對設(shè)于真空爐外的控制裝置、電路產(chǎn)生不良影響,而無法持續(xù)、穩(wěn)定的生產(chǎn)人工晶體為其缺失。此即為現(xiàn)行習(xí)用技術(shù)存有最大的缺失,此缺失乃成業(yè)界亟待克服的難題。
實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此,本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于提供一種適用于成長如單晶藍(lán)寶石晶體等各種氧化物人工晶體的藍(lán)寶石單晶長晶爐,具有避免設(shè)于真空爐體外部裝置受損。
為解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種藍(lán)寶石單晶長晶爐,其主要包括有一真空爐體,該真空爐體內(nèi)設(shè)有坩堝,坩堝外緣設(shè)有加熱組件,加熱組件外緣設(shè)有隔熱裝置,所述坩堝設(shè)有旋動件,旋動件鏈接外部旋動裝置,坩堝上端設(shè)有拉起件,拉起件鏈接外部拉起裝置及使拉起件旋轉(zhuǎn)的旋動裝置,拉起件下端置有籽晶,該真空爐體具有進(jìn)氣孔及排氣孔,并分別連通外部氣體供應(yīng)裝置及排氣裝置,真空爐體外部并具有中央控制裝置,分別鏈接對爐內(nèi)抽真空的排氣裝置,鏈接氣體提供爐內(nèi)氣氛氣體的供應(yīng)裝置,鏈接拉起裝置及旋動裝置控制拉起件的拉升及旋轉(zhuǎn),鏈接加熱組件電源使加熱組件對坩堝加熱,及鏈接旋動裝置以控制坩堝的旋轉(zhuǎn),該真空爐體與隔熱裝置間設(shè)有冷卻槽,冷卻槽上端具有冷卻液入口連通冷卻液供給裝置,冷卻槽下端具有冷卻液出口連通排液裝置。
進(jìn)一步,該冷卻槽間隔設(shè)有擋板。
進(jìn)一步,該擋板為交錯(cuò)設(shè)置。
進(jìn)一步,該真空爐體內(nèi)另設(shè)有溫度感應(yīng)裝置。
進(jìn)一步,該溫度感應(yīng)裝置為紅外線溫度計(jì)。
進(jìn)一步,該溫度感應(yīng)裝置鏈接中央控制裝置。
進(jìn)一步,該真空爐體上設(shè)有窺視窗。
進(jìn)一步,該窺視窗連結(jié)設(shè)有遠(yuǎn)程顯示設(shè)備,該遠(yuǎn)程顯示設(shè)備鏈接中央控制裝置。
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