[實(shí)用新型]一種低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120256900.4 | 申請(qǐng)日： | 2011-07-20 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN202170300U | 公開（公告）日： | 2012-03-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李藝明;尚貴才 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 福耀玻璃工業(yè)集團(tuán)股份有限公司;福建省萬達(dá)汽車玻璃工業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C03C17/36 | 分類號(hào)： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 350301 福建省福*** | 國(guó)省代碼： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、電介質(zhì)層、犧牲層、保護(hù)層、Ag膜層，其特征在于：該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為：玻璃基板、TiO2:Zr膜層、第一電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第一犧牲膜層、頂層電介質(zhì)膜層、保護(hù)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜層厚度為5～20nm。
3.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、電介質(zhì)層、犧牲層、保護(hù)層、Ag膜層，其特征在于：該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為：玻璃基板、TiO2:Zr膜層、第一電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第一犧牲膜層、第二電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第二犧牲膜層、頂層電介質(zhì)膜層、保護(hù)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜層厚度為5～20nm。
5.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、電介質(zhì)層、犧牲層、保護(hù)層、Ag膜層，其特征在于：該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為：玻璃基板、TiO2:Zr膜層、第一電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第一犧牲膜層、第二電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第二犧牲膜層、第三電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第三犧牲膜層、頂層電介質(zhì)膜層、保護(hù)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜層厚度為5～20nm。
7.一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、電介質(zhì)層、犧牲層、保護(hù)層、Ag膜層，其特征在于：該玻璃膜層結(jié)構(gòu)依次為：玻璃基板、TiO2:Zr膜層、第一電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第一犧牲膜層、第二電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第二犧牲膜層、第三電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第三犧牲膜層、第四電介質(zhì)膜層、Ag膜層、第四犧牲膜層、頂層電介質(zhì)膜層、保護(hù)層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述TiO2:Zr膜層厚度為5～20nm。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8之一所述的低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：第一電介質(zhì)膜層、第二電介質(zhì)膜層、第三電介質(zhì)膜層、第四電介質(zhì)膜層、頂層電介質(zhì)膜層和保護(hù)膜層選用以下的一種材料：SnOx、TiOx、ZnOx、SiNx、ZnxSnyOn、ZnxTiyOn、ZrOx、NbOx、SiNOx，其膜層厚度為5～90nm；第一犧牲層、第二犧牲層、第三犧牲層和第四犧牲層選用以下的一種材料：NiCr、Ti、Nb、NiCrOx、Sb，其膜層厚度為1～5nm。?
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