[實(shí)用新型]TFT陣列基板以及液晶顯示面板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120255786.3 | 申請日: | 2011-07-19 |
| 公開(公告)號: | CN202145253U | 公開(公告)日: | 2012-02-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏山山;張世曉 | 申請(專利權(quán))人: | 上海天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1339;H01L27/12 |
| 代理公司: | 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201201 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | tft 陣列 以及 液晶顯示 面板 | ||
1.一種TFT陣列基板,包括:
基板,具有TFT陣列;以及
至少一個支撐柱襯墊,形成于所述基板上;
其特征在于,所述支撐柱襯墊包括存儲電容。
2.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,還包括:
形成于所述基板上的掃描線和公共電極;
與所述掃描線相交的數(shù)據(jù)線;
所述掃描線和數(shù)據(jù)線限定的像素區(qū)域內(nèi)形成有TFT,所述TFT包括:與所述掃描線電連接的柵極,依次形成于所述柵極上的柵絕緣層、半導(dǎo)體層和源/漏金屬層,所述TFT的源極與所述數(shù)據(jù)線電連接;以及
通過過孔與所述TFT的漏極電連接的像素電極。
3.如權(quán)利要求2所述的TFT陣列基板,其特征在于,還包括形成于所述半導(dǎo)體層與所述源/漏金屬層之間的歐姆接觸層。
4.如權(quán)利要求3所述的TFT陣列基板,其特征在于,所述公共電極為所述存儲電容的下極板,所述源/漏金屬層為所述存儲電容的上極板。
5.如權(quán)利要求4所述的TFT陣列基板,其特征在于,所述存儲電容的介質(zhì)層為所述柵極絕緣層、半導(dǎo)體層、歐姆接觸層中的一種或其組合。
6.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,還包括形成于所述像素電極、源極、漏極、數(shù)據(jù)線和所述柵絕緣層上的鈍化層。
7.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,包括至少一個主支撐柱襯墊和至少一個輔支撐柱襯墊,所述主支撐柱襯墊的高度大于輔支撐柱襯墊的高度。
8.如權(quán)利要求7所述的TFT陣列基板,其特征在于,所述主支撐柱襯墊和所述輔支撐柱襯墊所包括的存儲電容大小相同。
9.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,所述支撐柱襯墊之外的區(qū)域上還具有存儲電容。
10.一種液晶顯示面板,其特征在于,包括:
如權(quán)利要求1至9中任意一項所述的TFT陣列基板;
與所述TFT陣列基板相對設(shè)置的彩膜基板,所述彩膜基板面向所述TFT陣列基板的一面上形成有黑矩陣層和色素層,在所述黑矩陣層對應(yīng)于所述支撐柱襯墊的位置處形成有支撐柱;以及
設(shè)置于所述TFT陣列基板和彩膜基板之間的液晶層。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
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