[實用新型]硅晶體的提純設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120239982.1 | 申請日: | 2011-07-08 |
| 公開(公告)號: | CN202116323U | 公開(公告)日: | 2012-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳評;羅建平;陳樹欽 | 申請(專利權(quán))人: | 陳評;羅建平;陳樹欽 |
| 主分類號: | C01B33/037 | 分類號: | C01B33/037 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 曹翠珍 |
| 地址: | 211100 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶體 提純 設(shè)備 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
????本實用新型涉及一種硅晶體的提純設(shè)備。
背景技術(shù)
????太陽能電池用硅材料的主流制造工藝為西門子法,其工藝主要包括:將冶金級硅與氯化氫反應(yīng)生成三氯氫硅、蒸餾提純?nèi)葰涔琛⒃?100℃高溫下用高純氫氣還原提純后的三氯氫硅,獲高純度多晶硅。該方法由于污染嚴(yán)重,能耗過高,于2009年被中國政府列為抑制建設(shè)項目。(具體見2009年9月26日發(fā)文的《國務(wù)院批轉(zhuǎn)發(fā)展改革委等部門關(guān)于抑制部分行業(yè)產(chǎn)能過剩和重復(fù)建設(shè)引導(dǎo)產(chǎn)業(yè)健康發(fā)展若干意見的通知》)。????
???Lawrence?M?Litz等申請的美國專利硅片結(jié)晶純化(U.S?Pat.?No.?3097068,?1963),提出以金屬鋁為溶劑,通過重結(jié)晶過程純化硅。其采用的裝置見圖1,工藝是由以下步驟組成:(1)、將硅鋁按一定配比在第一坩堝中加熱溶解;(2)、將第一坩堝中合金熔體引入溫度稍低的第二坩堝中結(jié)晶;(3)、用帶孔耐火漏斗從第二坩堝中將析出的硅過濾撈出;(4)、將剩余熔體引回第一坩堝中;(5)、在第一坩堝中添加少許硅塊,溶解后重復(fù)步驟(2)。該工藝的主要問題在于:(1)、熔體中析出的硅為針狀顆粒,漏斗孔大則硅的收集得率很低,孔小則收集物中含鋁過高。通過酸洗的方法除鋁,則需要消耗大量的酸,損失大量的鋁,容易造成環(huán)境污染;(2)、溶解結(jié)晶采用了熔體在雙溫區(qū)轉(zhuǎn)移的方式,在高溫條件下熔體流動所需的高純管材及熔體流動的驅(qū)動力均難以獲得。
Harsharn?Tathgar2010年申請的專利WO2010/098676A1,對Litz工藝的結(jié)晶過程做了改進,采用的裝置見圖2所示,方法是在結(jié)晶區(qū)投入少量粒徑為100~200微米的硅晶體,當(dāng)晶體長大到1~5mm后通過過濾或離心過濾方式將熔體與晶體分離。該專利雖然能有效提高硅晶體與鋁熔體的分離效率,但硅顆粒表面依然殘留有大量的鋁,上述兩個缺陷并沒有得到徹底解決。
Scott?Nichol?在2011年獲得的專利US?7,883,680?B22011年,采用了單坩堝熔煉結(jié)晶方法,裝置見圖3所示,避免了熔體在兩個坩堝間的轉(zhuǎn)移,采用搗棒將析出的硅晶體搗至坩堝底部富集,上部熔體倒出。采用該方法富集的硅晶體團聚物依然包含大量的鋁,另外底部沉積的雜質(zhì)與硅晶體難以分離。
實用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實用新型的目的是提供一種硅的提純裝置,結(jié)構(gòu)簡單,分離效果好。
為實現(xiàn)上述的目的,本實用新型采用了以下的技術(shù)方案:
?硅晶體的提純設(shè)備,包括:爐桶,爐桶的內(nèi)壁設(shè)置保溫材料,保溫材料內(nèi)側(cè)設(shè)有加熱器,爐桶頂部設(shè)置爐蓋,其特征在于爐桶的底部設(shè)置旋轉(zhuǎn)托盤,旋轉(zhuǎn)托盤的上部安放坩堝,坩堝內(nèi)底部設(shè)有攪拌槳葉,攪拌槳葉隨坩堝轉(zhuǎn)動;坩堝內(nèi)設(shè)置冷阱。
所述的冷阱通過在坩堝內(nèi)中上部插入冷卻棒形成,所述冷卻管設(shè)置在冷卻套筒內(nèi)。
本實用新型有以下積極的效果:本實用新型結(jié)構(gòu)簡單,可獲得高純度針狀硅聚集體。?
附圖說明
圖1是Litz硅提純工藝所采用裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是Harsharn?Tathgar等人提出的硅提純工藝所采用裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
????圖3是Scott?Nichol等人提出的硅提純工藝所采用裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;????
?圖4為本實用新型硅晶體的提純設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖;
?圖4中主要附圖標(biāo)記的說明:加熱器10、冷卻棒套筒11、攪拌槳葉12、針狀高純硅聚集體13、爐筒14、旋轉(zhuǎn)托盤15、坩堝16、爐蓋17、冷卻水管18。
具體實施方式
下面結(jié)合具體實施方式對本實用新型做進一步的詳細(xì)說明。
?圖4為硅晶體的提純設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。參照圖4所示,硅晶體的提純設(shè)備,包括:爐桶14,爐桶的內(nèi)壁設(shè)置保溫材料,保溫材料內(nèi)側(cè)為加熱器10。爐桶頂部設(shè)置爐蓋17,爐桶14的底部設(shè)置旋轉(zhuǎn)托盤15,旋轉(zhuǎn)托盤的上部設(shè)有坩堝16,坩堝內(nèi)底部設(shè)有無桿的攪拌槳葉12,冷卻棒套筒11從坩堝頂部插入坩堝的上部。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于陳評;羅建平;陳樹欽,未經(jīng)陳評;羅建平;陳樹欽許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201120239982.1/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





