[實用新型]等離子輔助化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201120201024.5
• 申請日: 2011-06-15
• 公開（公告）號: CN202279857U
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 楊利堅;高松年;盧偉賢;莊一鳴;易敏龍
• 申請（專利權）人: 香港生產力促進局
• 主分類號: C23C16/509
• 分類號: C23C16/509
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 程殿軍

技術領域

本實用新型有關一種氣相沉積設備，特別是指一種能用于等離子表面改性的真空式等離子輔助化學氣相沉積設備。

背景技術

等離子輔助氣相沉積技術主管是利用低溫等離子體，在真空的環境下，加入適當的反應氣體，通過電能激發輝光放電，使等離子體產生化學反應，從而在固體表面形成固態薄膜，較常見為金屬的氧化膜或氮化膜。

如今消費者對產品表面的功能性的要求越來越高，制作有防指紋(疏水)、防霧(親水)、防靜電等功能的表面處理技術的需求日益增加。目前工業界現有的表面處理技術上，只有溶膠凝膠型的涂料的成效比較顯著。可惜，溶膠凝膠型的涂料的生產普遍會釋放出化學廢液，不符合當今的環保理念。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的主要目的在于提供一種能對樣品進行表面改性并符合環保要求的等離子輔助化學氣相沉積設備。

為達到上述目的，本實用新型提供一種等離子輔助化學氣相沉積設備，其包括有化學氣相沉積真空室，該化學氣相沉積真空室通過法蘭連接有真空系統，所述化學氣相沉積真空室的兩側室壁各設有相對的能產生等離子體、且能通過調控磁鐵分布調控磁場以改變等離子體強度與分布的可調式磁控等離子源平板電極，該等離子源平板電極連接有中頻電源，所述化學氣相沉積真空室頂部設有二維工件轉臺。

所述等離子源平板電極包括有電極板及導電棒，所述化學氣相沉積真空室的室壁上設有通孔，所述導電棒通過一連接器穿設于該通孔，位于所述化學氣相沉積真空室內部的所述導電棒的一端連接所述電極板，位于所述化學氣相沉積真空室外部的所述導電棒的一端為電源接口，連接有所述中頻電源。

位于所述化學氣相沉積真空室外部的所述導電棒上套設有凸字狀的夾持件，該夾持件并套設于所述連接器上，所述連接器與所述夾持件之間還設有絕緣墊片，環繞凸字狀的所述夾持件的上部還設有蓋板，該蓋板通過螺釘與所述化學氣相沉積真空室的室壁之間固定。

所述化學氣相沉積真空室對應所述電極板的室壁處設有三排并行排列、且能改變所述等離子體強度與分布的釹硼鐵磁鐵，該釹硼鐵磁鐵以N極-S極-N極或S極-N極-S極的方式排列。

所述真空系統包括有以串聯方式相連的機械旋片泵和羅茨泵，該羅茨泵通過一氣動閥連接至所述化學氣相沉積真空室。

所述化學氣相沉積真空室設有真空規、質量流量計及充氣閥。

所述化學氣相沉積真空室正面設有玻璃觀景窗。

使用本實用新型等離子輔助化學氣相沉積設備進行的表面改性工藝不涉及任何廢水的產生及排放，符合環保的生產原則。表面改性工藝可賦予樣品表面附加功能，如防指紋、防霧、防靜電等，提高產品的附加價值。

附圖說明

圖1為本實用新型等離子輔助化學氣相沉積設備結構示意圖；

圖2為本實用新型中的化學氣相沉積真空室的俯視圖；

圖3為本實用新型中的化學氣相沉積真空室的底部示意圖；

圖4為本實用新型等離子輔助化學氣相沉積設備的側面示意圖；

圖5為本實用新型中的等離子源平板電極與化學氣相沉積真空室的組裝截面圖；

圖6為沿圖5中A-A線方向的組裝結構示意圖。

具體實施方式

為便于對本實用新型的結構及達到的效果有進一步的了解，現配合附圖并舉較佳實例詳細說明如下。