[實用新型]等離子輔助化學氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201120201024.5
• 申請日: 2011-06-15
• 公開（公告）號: CN202279857U
• 公開（公告）日: 2012-06-20
• 發明（設計）人: 楊利堅;高松年;盧偉賢;莊一鳴;易敏龍
• 申請（專利權）人: 香港生產力促進局
• 主分類號: C23C16/509
• 分類號: C23C16/509
• 代理公司: 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228
• 代理人: 程殿軍

1.一種等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，其包括有化學氣相沉積真空室，該化學氣相沉積真空室通過法蘭連接有真空系統，所述化學氣相沉積真空室的兩側室壁各設有相對的能產生等離子體、且能通過調控磁鐵分布調控磁場以改變等離子體強度與分布的可調式磁控等離子源平板電極，該等離子源平板電極連接有中頻電源，所述化學氣相沉積真空室頂部設有二維工件轉臺。

2.如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，所述等離子源平板電極包括有電極板及導電棒，所述化學氣相沉積真空室的室壁上設有通孔，所述導電棒通過一連接器穿設于該通孔，位于所述化學氣相沉積真空室內部的所述導電棒的一端連接所述電極板，位于所述化學氣相沉積真空室外部的所述導電棒的一端為電源接口，連接有所述中頻電源。

3.如權利要求2所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，位于所述化學氣相沉積真空室外部的所述導電棒上套設有凸字狀的夾持件，該夾持件并套設于所述連接器上，所述連接器與所述夾持件之間還設有絕緣墊片，環繞凸字狀的所述夾持件的上部還設有蓋板，該蓋板通過螺釘與所述化學氣相沉積真空室的室壁之間固定。

4.如權利要求3所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，所述化學氣相沉積真空室對應所述電極板的室壁處設有三排并行排列、且能改變所述等離子體強度與分布的釹硼鐵磁鐵，該釹硼鐵磁鐵以N極-S極-N極或S極-N極-S極的方式排列。

5.如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，所述真空系統包括有以串聯方式相連的機械旋片泵和羅茨泵，該羅茨泵通過一氣動閥連接至所述化學氣相沉積真空室。

6.如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，所述化學氣相沉積真空室設有真空規、質量流量計及充氣閥。

7.如權利要求1所述的等離子輔助化學氣相沉積設備，其特征在于，所述化學氣相沉積真空室正面設有玻璃觀景窗。