[實用新型]光掩模沖洗的裝卡裝置無效
| 申請號: | 201120173281.2 | 申請日: | 2011-05-26 |
| 公開(公告)號: | CN202087567U | 公開(公告)日: | 2011-12-28 |
| 發明(設計)人: | 吉保國 | 申請(專利權)人: | 常州瑞擇微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B13/00 | 分類號: | B08B13/00;G03F1/00 |
| 代理公司: | 常州市維益專利事務所 32211 | 代理人: | 賈海芬 |
| 地址: | 213022 江蘇省常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光掩模 沖洗 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種光掩模沖洗的裝卡裝置,屬于半導體制造技術領域。?
背景技術
“光掩模”是集成電路芯片制造中用于批量印刷電路的模版。通過光刻工藝,將光掩模上的電路圖案大批量印刷到硅晶圓上。因此光掩模上的任何缺陷都會對芯片的成品率造成很大的影響。?
在光掩模的制造過程中,當光掩模曝光、顯影之后,需要去除表面的光刻膠。因此需要光掩模進行清洗。而常規是將光掩模放在一個相對封閉的工藝處理艙內,工藝處理艙內處于潔凈氛圍內,將光掩模放置在工藝處理艙內定位座上,通過電機使光掩模處于旋轉狀態,分別對光掩模板的兩面進行清洗。但這種結構清洗結構不能對掩模板邊界進行有效的清洗,而且每次只能對掩模板的單面進行清洗,由于不能同時對光掩模的正反兩面進行清洗,不僅用藥液用量較大,而且在清洗中的裝夾時間較長,去膠的生產效率不高。?
為解決清洗效率低和用化學藥液的使用量大的問題,目前先進的光掩模清洗工藝是將光掩模放置在沖洗槽內,沖洗槽采用內槽體和外槽體相結合的結構,將可移動托板的托盤設置在內槽體內而形成淺槽結構,托板的托座穿過內槽體與支座連接,清洗時,只需將光掩模平放在托盤內,在托盤壓接在內槽體上呈密封狀況時,使光掩模橫置浸沒在藥液中,以去除光掩模表面的光刻膠,當托板上移動時,使托板的托盤與內槽體脫離,將藥液從內槽體排置外槽體內通過排液流道排出,通過設置在外槽體和托板上的噴嘴實現噴淋沖清,達到對光掩模進行清洗的效果。目前公開一些自動抓取光掩模的裝置,體積較大,無法在清洗槽內進行水平抓取、放置以及翻轉,而不能應用于上述的清洗工藝,如采用人工放置和抓取光掩模,不僅影響清洗效率,而且也影響清洗效果。?
發明內容
本實用新型的目的是提供一種結構合理,能使主動卡爪和被動卡爪同時進退,在線能檢測到夾緊力,抓取、放置光掩模可靠,能滿足不同尺寸光掩模的光掩模沖洗的裝卡裝置。?
本實用新型為達上述目的的技術方案是:一種光掩模沖洗的裝卡裝置,其特征在于:包括設有孔口的工作臺以及安裝在工作臺上的開合驅動機構和自動翻轉機構,?
所述的開合驅動機構包括沿工作臺對角設置的兩導軌座、分別安裝在兩導軌座上的驅動組件和同步組件,所述的驅動組件包括氣缸、直線導軌以及過渡滑塊和托板,氣缸和直線導軌安裝在導軌座上,過渡滑塊與氣缸的移動件連接,托板安裝在直線導軌的滑塊上,且托板通過壓緊彈簧和測力傳感器分別與過渡滑塊相接;所述的同步組件包括安裝在工作臺上的六個以上導步齒輪和至少一個張緊輪及同步帶,沿兩導軌座周邊設置的同步帶與各導步齒輪嚙合,張緊輪設置在同步帶的一側,且托板與同步帶固定連接;?
所述的翻轉機構包括主動翻轉組件和從動翻轉組件,主動翻轉組件包括與托板連接的主動支承座、擺動氣缸、主動卡爪座和具有卡口的主動卡爪,主動支承座安裝在其中一個托板上,擺動氣缸安裝在主動支承座上,主動卡爪座通過主動軸套安裝在主動支承座上并與擺動氣缸的轉子連接,主動卡爪可拆安裝在主動卡爪的另一端;所述的從動翻轉組件包括被動支承座、被動卡爪座以及具有卡口的被動卡爪,被動支承座安裝在另一個托板上,被動卡爪座通過被動軸套安裝在被動支承座上,被動卡爪可拆安裝在被動卡爪座上,主動卡爪的中心線與被動卡爪中心線重合,主動支承座或/和擺動氣缸上安裝有檢測擺動角度的角度傳感器,或主動支承座或/和擺動氣缸上安裝有檢測擺動角度的接近開關,被動支承座或/和被動卡爪座上安裝有檢測水平位置的位置檢測開關。?
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