[實(shí)用新型]一種光刻膠噴涂設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201120159019.2
• 申請(qǐng)日: 2011-05-18
• 公開（公告）號(hào): CN202057958U
• 公開（公告）日: 2011-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 高濤;周偉峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/16
• 分類號(hào): G03F7/16
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及薄膜晶體管的制作工藝領(lǐng)域，尤其涉及一種光刻膠噴涂設(shè)備。

背景技術(shù)

薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)是目前顯示領(lǐng)域的主流顯示器件，而薄膜晶體管(TFT)陣列制造技術(shù)是制造高質(zhì)量的液晶顯示器的核心工藝，其通過濺射、化學(xué)沉積等成膜工藝形成制備電路必須的各種膜，通過對(duì)膜的加工處理制造成大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路。而光刻工藝又是TFT技術(shù)的核心工藝，它用光學(xué)成像的方法把掩模板(Mask)上的圖案轉(zhuǎn)移到玻璃基板或者半導(dǎo)體晶片表面的光刻膠上，然后再通過顯影、刻蝕、剝離等工藝步驟，最終在玻璃基板上形成所需要的TFT陣列圖形。光刻膠的涂覆是光刻工藝的關(guān)鍵步驟，其涂覆質(zhì)量的好壞直接影響TFT陳列圖形的性能優(yōu)劣。

目前最主要的光刻膠涂覆技術(shù)是“涂膠-甩膠”工藝，該工藝首先將待涂覆的玻璃基板放在操作平臺(tái)上，然后將光刻膠涂覆狹縫調(diào)整到與玻璃基板合適的位置，光刻膠供給裝置以一定的速度將光刻膠從狹縫中噴出，同時(shí)狹縫平動(dòng)裝置帶動(dòng)狹縫在玻璃基板上平動(dòng)，從而在玻璃基板上涂覆一層所需厚度的光刻膠。在完成光刻膠的涂覆后，將玻璃基板放到離心甩膠設(shè)備上，通過離心設(shè)備產(chǎn)生的離心力將光刻膠甩勻、甩薄。該涂膠工藝涂膠的均勻性隨甩膠設(shè)備變動(dòng)的偏差較大，導(dǎo)致離心力較小的旋轉(zhuǎn)中心部分光刻膠較厚，而離心力較大的玻璃邊緣部分光刻膠較薄，且涂膠工藝繁瑣，涂膠時(shí)間長(zhǎng)。

為了克服涂膠均勻性的困難，公開號(hào)為CN1963671的中國(guó)專利申請(qǐng)公開了一種光刻膠涂覆設(shè)備，該專利申請(qǐng)對(duì)光刻膠涂覆狹縫進(jìn)行了改造，增加了壓縮空氣噴嘴，從而只采用噴涂的方法就可完成光刻膠的涂覆。然而該方法仍然采用涂膠狹縫，即需要從玻璃的一邊涂覆到另一邊，這樣會(huì)使光刻膠涂覆具有時(shí)間差，導(dǎo)致玻璃兩端的光刻膠與玻璃的附著力不一樣，從而影響TFT的性能，并且采用涂膠狹縫的方法還存在涂膠速度慢的缺點(diǎn)，因此涂敷效率低。

實(shí)用新型內(nèi)容

(一)要解決的技術(shù)問題

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是：如何對(duì)整張玻璃基板進(jìn)行一次性同時(shí)噴涂，提高光刻膠的涂覆效率。

(二)技術(shù)方案

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種光刻膠噴涂設(shè)備，包括：玻璃基板支撐平臺(tái)和光刻膠噴涂平臺(tái)；所述光刻膠噴涂平臺(tái)包括圍欄以及放置于圍欄內(nèi)的底座；且所述底座的下表面上設(shè)置有凸出的光刻膠噴孔和壓縮空氣噴孔。

其中，所述設(shè)備還包括與所述底座連接的光刻膠供給機(jī)構(gòu)和壓縮空氣供給機(jī)構(gòu)，且所述底座與光刻膠供給機(jī)構(gòu)和壓縮空氣供給機(jī)構(gòu)之間分別通過光刻膠供給導(dǎo)管及壓縮空氣供給導(dǎo)管連接。

其中，所述圍欄的底部所圍成的形狀和面積與所述玻璃基板支撐平臺(tái)的形狀和面積相同。

其中，所述底座的形狀為長(zhǎng)方體或正方體。

其中，在所述圍欄內(nèi)設(shè)置有截面為矩形或正方形的通孔。

其中，所述光刻膠噴孔和所述壓縮空氣噴孔的數(shù)量為多個(gè)，且相間排列。

其中，玻璃基板支撐平臺(tái)的上表面設(shè)置有抽真空吸附孔和支撐釘。

其中，所述光刻膠噴孔的口窄底寬，所述壓縮空氣噴孔的口寬底窄。

其中，所述光刻膠噴孔的高度大于所述壓縮空氣噴孔的高度。

其中，所述光刻膠噴孔的高度大于所述壓縮空氣噴孔的高度3至5厘米。

(三)有益效果

本實(shí)用新型通過將壓縮空氣噴孔與光刻膠噴孔布滿整個(gè)底座，從而在噴涂時(shí)增大了用壓縮空氣噴涂光刻膠的范圍，而且將光刻膠噴孔設(shè)置為高度大于壓縮空氣噴孔，這樣，光刻膠在噴出以后，立即被多個(gè)壓縮空氣噴孔噴出的氣體霧化，從而使得光刻膠的涂覆更加均勻，可一次對(duì)整張玻璃基板進(jìn)行涂覆，無涂覆時(shí)間差的問題，這樣更能縮短光刻膠涂覆時(shí)間，從而提高涂覆效率，縮短工藝制造時(shí)間，降低生產(chǎn)成本。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型中光刻膠涂覆設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)圖；

圖2是光刻膠噴涂平臺(tái)的仰視圖；

圖3是光刻膠噴孔高于壓縮空氣噴孔排列方式時(shí)光刻膠噴涂平臺(tái)的剖面圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)說明。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。