[實用新型]一種光刻膠噴涂設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120159019.2
• 申請日: 2011-05-18
• 公開（公告）號: CN202057958U
• 公開（公告）日: 2011-11-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高濤;周偉峰
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 王瑩

1.一種光刻膠噴涂設(shè)備，其特征在于，包括：玻璃基板支撐平臺(1)和光刻膠噴涂平臺；所述光刻膠噴涂平臺包括圍欄(3)以及放置于圍欄(3)內(nèi)的底座(2)；且所述底座(2)的下表面上設(shè)置有凸出的光刻膠噴孔(4)和壓縮空氣噴孔(5)。

2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括與所述底座(2)連接的光刻膠供給機構(gòu)和壓縮空氣供給機構(gòu)，且所述底座(2)與光刻膠供給機構(gòu)和壓縮空氣供給機構(gòu)之間分別通過光刻膠供給導(dǎo)管及壓縮空氣供給導(dǎo)管連接。

3.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述圍欄(3)的底部所圍成的形狀和面積與所述玻璃基板支撐平臺(1)的形狀和面積相同。

4.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述底座(2)的形狀為長方體或正方體。

5.如權(quán)利要求4所述的設(shè)備，其特征在于，在所述圍欄(3)內(nèi)設(shè)置有截面為矩形或正方形的通孔。

6.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述光刻膠噴孔(4)和所述壓縮空氣噴孔(5)的數(shù)量為多個，且相間排列。

7.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，玻璃基板支撐平臺(1)的上表面設(shè)置有抽真空吸附孔和支撐釘。

8.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所述光刻膠噴孔(4)的口窄底寬，所述壓縮空氣噴孔(5)的口寬底窄。

9.如權(quán)利要求1至8任一項所述的設(shè)備，其特征在于，所述光刻膠噴孔(4)的高度大于所述壓縮空氣噴孔(5)的高度。

10.如權(quán)利要求9所述的設(shè)備，其特征在于，所述光刻膠噴孔(4)的高度大于所述壓縮空氣噴孔(5)的高度3至5厘米。