[實用新型]太陽能硅片線切割導輥與專用鍍膜機和電鍍機

有效

• 申請號: 201120136256.7
• 申請日: 2011-05-03
• 公開（公告）號: CN202079687U
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發明（設計）人: 勵征
• 申請（專利權）人: 蒙特集團（香港）有限公司
• 主分類號: B28D7/00
• 分類號: B28D7/00;C23C14/35;C25D19/00
• 代理公司: 北京市惠誠律師事務所 11353
• 代理人: 雷志剛;潘士霖

技術領域

本實用新型涉及太陽能硅片切割設備技術領域，尤其是一種太陽能硅片線切割導輥與專用鍍膜機和電鍍機。?

背景技術

中國光伏發電產業近五年發展迅猛，太陽能硅片切割設備投入近幾年以幾十倍的投入運行，其中切割用鋼線排線用V型導線輥，隨切片機臺的擴產而大量消耗、其中V型導線輥的表面磨損及耐磨特性直接影響切片品質和設備的利用率及綜合線切成本。?

在太陽能硅片線切割過程中，整個機理是利用碳化硅顆粒的堅硬特性和鋒利菱角將硅棒截斷，切割時切割鋼線在V型鋼線導輥上等間隔地、均勻地排線來帶動砂漿在高速運動中的鋼線表面，均勻平穩的使碳化硅微粒來切割硅棒表面，導線輥是控制切片厚度的一個關鍵控制點.在切割過程中導輥表面同時也被高速運動中的碳化硅間接磨損，V型槽間距發生變化而影響線切品質。?

隨著整個太陽能行業的發展，在太陽能硅片線切割中大量使用復合聚氨酯彈性體導輥，由于其表面的耐磨性受聚合體的材料結構影響，實際使用壽命周期在150-200小時之間已造成切片品質不穩定。在生產過程中更換導輥是個很復雜的工作，需要專業的操作人員花費5-8小時才能換好，也意味著企業需停機5-8小時，造成其他機臺設備資源的浪費，換好后還需要清洗其他設，進行表面重新修復增加企業成本，增加工人勞動強度，整個行業都在為如何提高V型鋼線導輥表面耐磨性和提高使用壽命及提高機臺利用率、降低切割成本而又不改變現有切割導輥的制作工藝尋找新的途徑。?

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：為了解決上述現有技術中的不足，本實用新型提供一種太陽能硅片線切割導輥在現有復合聚氨酯制成的V型導輥基體上鍍一層耐磨復合層，提升V型導輥基體表面與砂漿鋼線之間的耐磨特性，增加V型導輥基體的使用壽命，減少更換次數，穩定切片良率及降低生產成本。?

本實用新型提供一種專用鍍膜機，采用磁控濺射工藝實現復合聚氨酯基體表面金屬化處理。?

本實用新型提供一種專用電鍍機，采用電鍍工藝實現耐磨復合層的電鍍。?

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種太陽能硅片線切割導輥，具有復合聚氨酯制成的V型導輥基體，V型導輥基體表面上鍍有金屬復合層，在金屬復合層表面鍍有耐磨復合層，所述的金屬復合層為鎳、鈦、銅和鉻中的一種制成的金屬復合層，所述的耐磨復合層為含有耐磨微粒的防粘聚合體，防粘聚合體為聚四氟乙烯樹脂。?

所述的金屬復合層的厚度為0.10um-0.38um。?

所述的耐磨微粒為粒徑0.2um-2.0um的碳化硅和/或金剛石微粒，所述的耐磨復合層的厚度為2um-15um。?

一種生產太陽能硅片線切割導輥的專用鍍膜機，用于復合聚氨酯制成的V型導輥基體表面金屬化，包括真空室以及抽真空機組，真空室內設有一對安裝V型導輥基體的導輥自公轉機架，導輥自公轉機架上對應設置至少一組安裝V型導輥基體的夾具，真空室內安裝有至少一個磁控靶位以及與磁控靶位對應設置的金屬靶位，真空室外設有控制磁控靶位工作的磁控電源柜。?

為提高工作效率，所述的導輥自公轉機架上設置有四組安裝V型導輥基體?的夾具，可同時加工1至4組V型導輥，工作效率較高。?

為實現四種金屬的磁控濺射，所述的磁控靶位數量為四個，四個磁控靶位均勻圍繞在導輥自公轉機架的周向，金屬靶位可配置鎳靶、鈦靶、銅靶、鉻靶中的一種或多種組合的金屬，可按工藝需要配置不同的金屬組合。?

一種生產太陽能硅片線切割導輥的專用電鍍機，用于在已表面金屬化的V型導輥基體表面電鍍耐磨復合層，包括電鍍槽、電鍍電源、設置在電鍍槽內的鎳電極、支撐鎳電極的電極支架和電鍍液循環泵，鎳電極具有安裝V型導輥基體的空腔，鎳電極的兩端設有支撐V型導輥基體并驅動V型導輥基體轉動的導輥支架，鎳電極和V型導輥基體之間的空腔內具有隔離網，所述的電鍍槽內具有電鍍液，鎳電極的兩端分別為電鍍液的進液口和出液口，出液口與電鍍槽連通，進液口與電鍍槽通過電鍍液循環泵連通形成電鍍液循環回路，所述的電鍍電源的正極與V型導輥基體電連接，電鍍電源的負極與鎳電極電連接。?

優選電鍍液，所述的電鍍液為鎳復合電鍍液。?

為實現不停機自動添加微粒，提高生產效率并實現鍍層的均勻一致性，還具有控制鎳電極內電鍍液中碳化硅和/或金剛石微粒濃度的微粒添加裝置，所述的微粒添加裝置包括微粒貯存器和實時微粒含量探測控制器，所述的微粒貯存器與鎳電極的空腔連通，所述的實時微粒含量探測控制器設置在鎳電極空腔內的電鍍液中并與微粒貯存器控制連接。?