[實(shí)用新型]太陽能硅片線切割導(dǎo)輥與專用鍍膜機(jī)和電鍍機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120136256.7
• 申請日: 2011-05-03
• 公開（公告）號(hào): CN202079687U
• 公開（公告）日: 2011-12-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 勵(lì)征
• 申請（專利權(quán)）人: 蒙特集團(tuán)（香港）有限公司
• 主分類號(hào): B28D7/00
• 分類號(hào): B28D7/00;C23C14/35;C25D19/00
• 代理公司: 北京市惠誠律師事務(wù)所 11353
• 代理人: 雷志剛;潘士霖

1.一種太陽能硅片線切割導(dǎo)輥，具有復(fù)合聚氨酯制成的V型導(dǎo)輥基體(1)，其特征是：V型導(dǎo)輥基體(1)表面上鍍有金屬復(fù)合層(1-1)，在金屬復(fù)合層(1-1)表面鍍有耐磨復(fù)合層(1-2)，所述的金屬復(fù)合層(1-1)為鎳、鈦、銅和鉻中的一種制成的金屬復(fù)合層。

2.如權(quán)利要求1所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥，其特征是：所述的金屬復(fù)合層(1-1)的厚度為0.10um-0.38um。

3.如權(quán)利要求1所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥，其特征是：所述的耐磨復(fù)合層(1-2)的厚度為2um-15um。

4.一種生產(chǎn)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥的專用鍍膜機(jī)，用于復(fù)合聚氨酯制成的V型導(dǎo)輥基體(1)表面金屬化，其特征是：包括真空室(2)以及抽真空機(jī)組(3)，真空室(2)內(nèi)設(shè)有一對安裝V型導(dǎo)輥基體(1)的導(dǎo)輥?zhàn)怨D(zhuǎn)機(jī)架(4)，導(dǎo)輥?zhàn)怨D(zhuǎn)機(jī)架(4)上對應(yīng)設(shè)置至少一組安裝V型導(dǎo)輥基體(1)的夾具(41)，真空室(2)內(nèi)安裝有至少一個(gè)磁控靶位(21)以及與磁控靶位(21)對應(yīng)設(shè)置的金屬靶位(22)，真空室(2)外設(shè)有控制磁控靶位(21)工作的磁控電源柜(23)。

5.如權(quán)利要求4所述的專用鍍膜機(jī)，其特征是：所述的導(dǎo)輥?zhàn)怨D(zhuǎn)機(jī)架(4)上設(shè)置有四組安裝V型導(dǎo)輥基體(1)的夾具(41)。

6.如權(quán)利要求4或5所述的專用鍍膜機(jī)，其特征是：所述的磁控靶位(21)數(shù)量為四個(gè)，四個(gè)磁控靶位(21)均勻圍繞在導(dǎo)輥?zhàn)怨D(zhuǎn)機(jī)架(4)的周向，金屬靶位(22)可配置鎳靶、鈦靶、銅靶、鉻靶中的一種。

7.一種生產(chǎn)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥的專用電鍍機(jī)，用于在已表面金屬化的V型導(dǎo)輥基體(1)表面電鍍耐磨復(fù)合層(1-2)，其特征是：包括電鍍槽(5)、電鍍電源(6)、設(shè)置在電鍍槽(5)內(nèi)的鎳電極(51)、?支撐鎳電極(51)的電極支架(52)和電鍍液循環(huán)泵(53)，鎳電極(51)具有安裝V型導(dǎo)輥基體(1)的空腔，鎳電極(51)的兩端設(shè)有支撐V型導(dǎo)輥基體(1)并驅(qū)動(dòng)V型導(dǎo)輥基體(1)轉(zhuǎn)動(dòng)的導(dǎo)輥支架(54)，鎳電極(51)和V型導(dǎo)輥基體(1)之間的空腔內(nèi)具有隔離網(wǎng)(51-1)，所述的電鍍槽(5)內(nèi)具有電鍍液，鎳電極(51)的兩端分別為電鍍液的進(jìn)液口(51-2)和出液口(51-3)，出液口(51-3)與電鍍槽(5)連通，進(jìn)液口(51-2)與電鍍槽(5)通過電鍍液循環(huán)泵(53)連通，所述的電鍍電源(6)的正極與V型導(dǎo)輥基體(1)電連接，電鍍電源(6)的負(fù)極與鎳電極(51)電連接。

8.如權(quán)利要求7所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥的專用電鍍機(jī)，其特征是：所述的電鍍液為鎳復(fù)合電鍍液。

9.如權(quán)利要求8所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥的專用電鍍機(jī)，其特征是：還具有控制鎳電極(51)內(nèi)電鍍液中碳化硅和/或金剛石微粒濃度的微粒添加裝置，所述的微粒添加裝置包括微粒貯存器和實(shí)時(shí)微粒含量探測控制器，所述的微粒貯存器與鎳電極(51)的空腔連通，所述的實(shí)時(shí)微粒含量探測控制器設(shè)置在鎳電極(51)空腔內(nèi)的電鍍液中并與微粒貯存器控制連接。

10.如權(quán)利要求7所述的太陽能硅片線切割導(dǎo)輥的專用電鍍機(jī)，其特征是：所述的電鍍槽(5)上設(shè)有測量電鍍液的pH計(jì)(7)和溫度計(jì)(8)。?