[實用新型]沉積腔有效
| 申請號： | 201120130232.0 | 申請日： | 2011-04-28 |
| 公開（公告）號： | CN202054890U | 公開（公告）日： | 2011-11-30 |
| 發明（設計）人： | 黃平;王烜;唐黎華 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/50 | 分類號： | C23C14/50;C23C14/32 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李時云 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種沉積腔，包括臺座、與所述臺座相連的座環，其特征在于，所述臺座設有至少一個凹口，所述座環設有至少一片接觸片，所述座環與所述臺座相連時，所述接觸片卡在所述凹口內。
2.如權利要求1所述的沉積腔，其特征在于，所述臺座包括中央區和邊緣區，所述邊緣區環繞在所述中央區外，且與所述中央區呈臺階狀連接，所述凹口設置在所述邊緣區的邊沿處。
3.如權利要求1或2所述的沉積腔，其特征在于，所述凹口的數量為3～6個，多個所述凹口沿同一圓周均勻分布。
4.如權利要求1或2所述的沉積腔，其特征在于，所述凹口呈拱門狀。
5.如權利要求1所述的沉積腔，其特征在于，所述座環包括內環和外環，所述外環環繞在所述內環外，且與所述內環呈臺階狀連接，所述接觸片設置在所述外環的內側壁上。
6.如權利要求1或5所述的沉積腔，其特征在于，所述接觸片的數量為3～6片，多個所述接觸片沿同一圓周均勻分布。
7.如權利要求1或5所述的沉積腔，其特征在于，所述接觸片呈拱門狀。
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