[實用新型]X射線閃爍體光學成像系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201120123335.4 | 申請日: | 2011-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN202049238U | 公開(公告)日: | 2011-11-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 顧寧;李光;羅守華 | 申請(專利權(quán))人: | 東南大學 |
| 主分類號: | G01T1/202 | 分類號: | G01T1/202;G01T1/24;G01N23/083;A61B6/00;G02B21/36;G02B17/06 |
| 代理公司: | 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人: | 柏尚春 |
| 地址: | 210096*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 射線 閃爍 光學 成像 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及X射線閃爍體光學成像系統(tǒng),更具體的涉及了將X射線通過鈰激活釔鋁石榴石單晶轉(zhuǎn)化成可見光,可見光進入物鏡、轉(zhuǎn)向鏡、管鏡這個光路系統(tǒng)進行放大成像,最終成像在電荷耦合器(CCD)感應(yīng)面上。
背景技術(shù)
?X射線成像在日常生活中起著重要的作用,從醫(yī)療X射線成像的應(yīng)用到機場安檢裝置,X射線成像的探測器都起著重要作用。X射線成像系統(tǒng)的探測器通常可分成兩類:基于化學方法的探測器,如膠片;電子探測器,如電荷耦合器(CCD)或成像板。
基于化學方法的探測器是傳統(tǒng)的X射線成像探測器。化學探測器是最先運用于X線成像的,然而,基于化學方法的探測器無法重復利用,成像速度慢代價高。另外X射線膠片的分辨率約為10微米,主要取決于膠片感光顆粒的大小,高感光度膠片有比較大的感光顆粒,其分辨率在50-100微米。
?大多數(shù)電子探測器是基于電荷耦合器(CCD)相機或成像板的探測器有效地解決了基于化學方法的探測器的弊端,可以重復利用,電子探測器所記錄的圖像可以在曝光后立即讀出。但是,這些電子探測器若直接感應(yīng)X射線,電子探測器的門電路會受到輻射損傷。當然,如果門電路輻射損傷可以控制在一定范圍內(nèi),電子探測器有較長的使用壽命。
?直接連成像電荷耦合器(CCD)的探測器,X射線直接輻射電荷耦合器(CCD)芯片使其產(chǎn)生電子空穴對。該系統(tǒng)的優(yōu)點是有很高的轉(zhuǎn)化效率,X線一般可以控制在100千電子伏以內(nèi),但是大多數(shù)的電荷耦合器(CCD)芯片的像素大小為6-20微米,所以探測的分辨率只能達到10微米左右。還有就是硬X射線的直接照射會造成CCD的損傷,大大的降低CCD的使用次數(shù)。
為了解決這種X線直接照射帶來的損傷現(xiàn)可以采用閃爍體光纖錐耦合的電荷耦合器(CCD)探測器,光纖錐的一端與電荷耦合器(CCD)芯片相連,另一端則與閃爍體相接。該系統(tǒng)的分辨率為幾個微米,光線轉(zhuǎn)換效率通常相當高,一般有70%-80%。由于X射線輻射經(jīng)閃爍體后通過光線錐到達電荷耦合器(CCD),可以使電荷耦合器(CCD)以免受輻射損傷。但是,這樣的系統(tǒng)存在光纖錐的失真,且這種失真會隨著放大倍數(shù)的增大而增強。
?本系統(tǒng)為了得到較高的分辨率以及避免X線直接照射帶來的電荷耦合器(CCD)使用壽命的降低,首先采用將閃爍體與顯微物鏡結(jié)合的探測器得到較高的分辨率,在最佳條件下其分辨率可達到1微米以上。通過采用光線轉(zhuǎn)向裝置避免X線的直接照射。本系統(tǒng)采用了顯微物鏡,所以其分辨率是最高的。也正是因為其高分辨率,選擇沒有紋理的單晶作為閃爍體材料。此外,使用高數(shù)值孔徑使物鏡系統(tǒng)光通量增加。通過操作結(jié)構(gòu)改變物鏡系統(tǒng)可以大范圍的提高放大倍數(shù)和分辨率。
發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題:本實用新型要解決的技術(shù)問題是提出一種X射線閃爍體光學成像系統(tǒng),該系統(tǒng)采用光子能量在20-70千電子伏特范圍內(nèi)的X射線,通過動態(tài)置換不同的物鏡系統(tǒng),可使該系統(tǒng)的分辨率可達到1微米以上。
技術(shù)方案:為解決上述技術(shù)問題,本實用新型提出一種X射線閃爍體光學成像系統(tǒng),該系統(tǒng)將X射線轉(zhuǎn)化成可見光并成像在電荷耦合器探測器上,該系統(tǒng)包括:提供X射線的點源;閃爍體;設(shè)置在點源與閃爍體之間且具有旋轉(zhuǎn)、上下平移、左右平移、前后平移四自由度的載物臺;涂敷在閃爍體與載物臺相對的一面的可見光反射涂層;與閃爍體連接的光學玻璃基底;與光學玻璃基底相連的顯微物鏡;與顯微物鏡相距一定距離的轉(zhuǎn)向鏡;與轉(zhuǎn)向鏡相距一定距離的管鏡;與管鏡相連的電荷耦合器探測器;其中,點源發(fā)射X射線,經(jīng)過載物臺上的物體的吸收,到達閃爍體,同時閃爍體吸收轉(zhuǎn)化X射線成可見光,可見光通過光學玻璃基底折射后到達顯微物鏡的前端,顯微物鏡與轉(zhuǎn)向鏡的夾角等于管鏡與轉(zhuǎn)向鏡的夾角,顯微物鏡將閃爍體發(fā)出的可見光線成像到無窮遠處;該光線經(jīng)轉(zhuǎn)向鏡后方向轉(zhuǎn)變,管鏡則將光線聚焦到可見光電荷耦合器探測器的感應(yīng)面上,通過這樣的將X射線轉(zhuǎn)換成可見光并聚焦的過程獲得圖像。
優(yōu)選的,所述的閃爍體材料是鈰激活釔鋁石榴石單晶。
優(yōu)選的,所述的閃爍體的厚度因整個系統(tǒng)的放大倍數(shù)不同而不同。
優(yōu)選的,可見光反射涂層為鋁膜。
優(yōu)選的,所述的管鏡經(jīng)過顯微物鏡的平行光線聚焦到電荷耦合器探測器感應(yīng)面上。
優(yōu)選的,所述的顯微物鏡像方視場范圍為26mm×26mm。
優(yōu)選的,所述的光學玻璃基底的折射率n為1.5。
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