[實用新型]X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120123335.4
• 申請日: 2011-04-25
• 公開（公告）號: CN202049238U
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 顧寧;李光;羅守華
• 申請（專利權(quán)）人: 東南大學(xué)
• 主分類號: G01T1/202
• 分類號: G01T1/202;G01T1/24;G01N23/083;A61B6/00;G02B21/36;G02B17/06
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務(wù)所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

1.一種X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，該系統(tǒng)將X射線轉(zhuǎn)化成可見光并成像在電荷耦合器探測器（21）上，其特征在于：該系統(tǒng)包括：提供X射線的點源（10）；閃爍體（15）；設(shè)置在點源（10）與閃爍體（15）之間且具有旋轉(zhuǎn)、上下平移、左右平移、前后平移四自由度的載物臺（22）；涂敷在閃爍體（15）與載物臺相對的一面的可見光反射涂層（12）；與閃爍體（15）連接的光學(xué)玻璃基底（16）；與光學(xué)玻璃基底（16）相連的顯微物鏡（17）；與顯微物鏡（17）相距一定距離的轉(zhuǎn)向鏡（19）；與轉(zhuǎn)向鏡（19）相距一定距離的管鏡（20）；?與管鏡（20）相連的電荷耦合器探測器（21）；其中，點源（10）發(fā)射X射線，經(jīng)過載物臺（22）上的物體的吸收，到達閃爍體（15），同時閃爍體（15）吸收轉(zhuǎn)化X射線成可見光，可見光通過光學(xué)玻璃基底（16）折射后到達顯微物鏡（17）的前端，顯微物鏡（17）與轉(zhuǎn)向鏡（19）的夾角等于管鏡（20）與轉(zhuǎn)向鏡（19）的夾角，顯微物鏡將閃爍體（15）發(fā)出的可見光線（18）成像到無窮遠處；該光線經(jīng)轉(zhuǎn)向鏡（19）后方向轉(zhuǎn)變，管鏡（20）則將光線聚焦到可見光電荷耦合器探測器（21）的感應(yīng)面上，通過這樣的將X射線轉(zhuǎn)換成可見光并聚焦的過程獲得圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述的閃爍體（15）材料是鈰激活釔鋁石榴石單晶。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述的閃爍體（15）的厚度因整個系統(tǒng)的放大倍數(shù)不同而不同。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：可見光反射涂層（12）為鋁膜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述的管鏡（20）經(jīng)過顯微物鏡（17）的平行光線聚焦到電荷耦合器探測器（21）感應(yīng)面上。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述的顯微物鏡（17）像方視場范圍為26mm×26mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線閃爍體光學(xué)成像系統(tǒng)，其特征在于：所述的光學(xué)玻璃基底（16）的折射率n為1.5。