[實用新型]用于防止晶片掉片的真空控制系統有效

申請號：	201120115171.0	申請日：	2011-04-18
公開（公告）號：	CN202025725U	公開（公告）日：	2011-11-02
發明（設計）人：	鄭昌榮	申請（專利權）人：	海太半導體（無錫）有限公司
主分類號：	H01L21/00	分類號：	H01L21/00;H01L21/683
代理公司：	無錫市大為專利商標事務所 32104	代理人：	曹祖良
地址：	214028 江蘇省***	國省代碼：	江蘇;32
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摘要：
搜索關鍵詞：	用于防止晶片真空控制系統
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【權利要求書】：

1.用于防止晶片掉片的真空控制系統，其特征在于：包括粘合工作臺（1）、放氣閥（5）、真空發生閥（6）、固體繼電器（7）、直流電源（8）和真空信號發生器?（9），粘合工作臺（1）通過導管（2）分別連接放氣閥（5）的充氣口和真空發生閥（6）的吸氣口，放氣閥（5）和真空發生閥（6）分別與固體繼電器（7）電氣連接，通過固體繼電器（7）控制；固定繼電器（7）分別通過導線連接電源（8）和真空信號發生器（9）。

2.如權利要求1所述的用于防止晶片掉片的真空控制系統，其特征在于：所述放氣閥（5）和真空發生閥（6）安裝在一個閥本體過濾器（4）上，在閥本體過濾器（4）上連接有一個進氣管（3）；所述導管（2）直接連接在閥本體過濾器（4）上，放氣閥（5）的充氣口、真空發生閥（6）的吸氣口經由閥本體過濾器（4）后通過導管（2）與粘合工作臺（1）相連。

3.如權利要求1所述的用于防止晶片掉片的真空控制系統，其特征在于：所述固定繼電器（7）的電源采用24V直流電源。

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