[實用新型]羥基羧酸環狀二聚體制造裝置無效
| 申請號： | 201120079230.3 | 申請日： | 2011-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN202022870U | 公開（公告）日： | 2011-11-02 |
| 發明（設計）人： | 上川將行;松尾俊明;岡本成恭;岡憲一郎;近藤健之;戶村晃;鈴木一隆 | 申請（專利權）人： | 株式會社日立工業設備技術 |
| 主分類號： | C07D319/12 | 分類號： | C07D319/12 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 羥基 羧酸 環狀 二聚體 制造 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種羥基羧酸環狀二聚體制造裝置，其特征在于具有水平設置的反應液流路、與反應液流路接觸的熱介質流路和將反應液流路減壓的減壓裝置。
2.根據權利要求1所述的羥基羧酸環狀二聚體制造裝置，其中，平行地設有多條反應液流路，熱介質流路被按照包圍各條反應液流路的方式設置。
3.根據權利要求1所述的羥基羧酸環狀二聚體制造裝置，其中，在反應液流路內設有多條熱介質流路。
4.根據權利要求3所述的羥基羧酸環狀二聚體制造裝置，其中，平行地設置有反應液流路和熱介質流路。
5.根據權利要求1～4中任意一項所述的羥基羧酸環狀二聚體制造裝置，其中，在反應液流路的出口設有收集罐，在收集罐中設有液面計。
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