[實用新型]激光近場分布測量用4f光學系統

無效

• 申請號: 201120074856.5
• 申請日: 2011-03-21
• 公開（公告）號: CN201983855U
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 李紅光;董曉娜;達爭尚
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04;G01J9/00;G02B27/00;G02B27/30
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 徐平

技術領域

本實用新型屬光學領域，涉及一種測量用光學系統，尤其涉及一種在激光近場分布測量用的4f光學系統。

背景技術

激光在傳輸過程中，需要經過多級、多個光學元件的取樣、傳遞、縮束環節，由于這一過程中光學元件自身的缺陷，勢必會給激光光束的質量帶來影響，這種影響反應到激光光束本身就體現在光束的能量分布發生變化，光束的波前產生畸變，光束在探測器上的調制度和對比度等都會隨之產生變化。為了能夠對激光光束的各參數進行準確評價，就需要建立精確的光束參數測量裝置，以便準確測量參數，反饋給系統作為光束校正的指導。

在眾多的參數測量中，對光束近場分布的測量(包括近場調制度測量、近場對比度測量)是參數測量中的關鍵測量部分。通常的近場測量系統雖然也符合近場物面和近場像面成像這樣的物象共軛關系，能夠完成近場分布測量的要求，但其精度低，系統龐大復雜，使用起來非常不方便。

實用新型內容

為了解決背景技術中存在的上述技術問題，本實用新型提供了一種測量精度高、結構簡單以及使用方便的激光近場分布測量用4f光學系統。

本實用新型的技術解決方案是：本實用新型提供了一種激光近場分布測量用4f光學系統，其特殊之處在于：所述激光近場分布測量用4f光學系統包括對入射光起會聚作用的會聚元件、對入射光起準直作用的準直元件以及探測器；所述會聚元件、準直元件以及探測器依次設置于同一光軸上。

上述會聚元件是正透鏡和/或負透鏡所形成的第一透鏡單元；所述準直元件是負透鏡和/或正透鏡所形成的第二透鏡單元。

上述會聚元件僅由正透鏡或負透鏡形成第一透鏡單元時，所述第一透鏡單元是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

上述會聚元件由正透鏡和負透鏡形成第一透鏡單元時，所述第一透鏡單元至少包括一個雙凸形正透鏡以及一個彎月形負透鏡，所述雙凸形正透鏡和彎月形負透鏡依次設置于同一光軸上。

上述準直元件僅由負透鏡或正透鏡形成第二透鏡單元時，所述第二透鏡單元是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

上述準直元件由負透鏡和正透鏡所形成的第二透鏡單元時，所述第二透鏡單元至少包括一個彎月形負透鏡以及一個雙凸形正透鏡；所述彎月形負透鏡以及雙凸形正透鏡依次設置于同一光軸上。

上述探測器是膠片或者CCD。

本實用新型的優點是：

本實用新型提供了一種激光近場分布測量用4f光學系統，該系統由看似簡單的光學元件搭建了足以能夠完成近場分布測量(包括近場調制度測量、近場對比度測量)的光學系統，該系統的光學元件可以根據實際情況不同組建多種形式，并具有結構簡單、使用方便等優點。激光近場分布測量用4f光學系統在激光參數測量中能夠完成近場分布測量(包括近場調制度測量、近場對比度測量)。

附圖說明

圖1是本實用新型所提供的激光近場分布測量用4f光學系統的結構示意圖；

圖2是依據本實用新型所提供系統在近場分布測量光路成像質量圖；

其中，：1.近場物面，2.第一透鏡單元2，3.第二透鏡單元3，4.近場像面

具體實施方式

參見圖1，本實用新型提供了一種激光近場分布測量用4f光學系統，該系統包括對入射光起會聚作用的會聚元件、對入射光起準直作用的準直元件以及探測器；會聚元件、準直元件以及探測器依次設置于同一光軸上。會聚元件可以是由正透鏡和/或負透鏡所形成的第一透鏡單元2；準直元件可以是由負透鏡和/或正透鏡所形成的第二透鏡單元3。

當會聚元件僅由正透鏡或負透鏡形成第一透鏡單元2時，第一透鏡單元2是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

當會聚元件由正透鏡和負透鏡形成第一透鏡單元2時，第一透鏡單元2至少包括一個雙凸形正透鏡以及一個彎月形負透鏡，雙凸形正透鏡和彎月形負透鏡依次設置于同一光軸上。

當準直元件僅由負透鏡或正透鏡形成第二透鏡單元3時，第二透鏡單元3是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

當準直元件由負透鏡和正透鏡所形成的第二透鏡單元3時，第二透鏡單元3至少包括一個彎月形負透鏡以及一個雙凸形正透鏡；彎月形負透鏡以及雙凸形正透鏡依次設置于同一光軸上。

探測器可以是膠片或者CCD。