[實用新型]激光近場分布測量用4f光學系統

無效

• 申請號: 201120074856.5
• 申請日: 2011-03-21
• 公開（公告）號: CN201983855U
• 公開（公告）日: 2011-09-21
• 發明（設計）人: 李紅光;董曉娜;達爭尚
• 申請（專利權）人: 中國科學院西安光學精密機械研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04;G01J9/00;G02B27/00;G02B27/30
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 徐平

1.一種激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述激光近場分布測量用4f光學系統包括對入射光起會聚作用的會聚元件、對入射光起準直作用的準直元件以及探測器；所述會聚元件、準直元件以及探測器依次設置于同一光軸上。

2.根據權利要求1所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述會聚元件是正透鏡和/或負透鏡所形成的第一透鏡單元；所述準直元件是負透鏡和/或正透鏡所形成的第二透鏡單元。

3.根據權利要求2所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述會聚元件僅由正透鏡或負透鏡形成第一透鏡單元時，所述第一透鏡單元是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

4.根據權利要求2所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述會聚元件由正透鏡和負透鏡形成第一透鏡單元時，所述第一透鏡單元至少包括一個雙凸形正透鏡以及一個彎月形負透鏡，所述雙凸形正透鏡和彎月形負透鏡依次設置于同一光軸上。

5.根據權利要求2所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述準直元件僅由負透鏡或正透鏡形成第二透鏡單元時，所述第二透鏡單元是雙凸形透鏡、平凸形透鏡、彎月形透鏡或雙凹形透鏡。

6.根據權利要求2所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述準直元件由負透鏡和正透鏡所形成的第二透鏡單元時，所述第二透鏡單元至少包括一個彎月形負透鏡以及一個雙凸形正透鏡；所述彎月形負透鏡以及雙凸形正透鏡依次設置于同一光軸上。

7.根據權利要求1-6任一權利要求所述的激光近場分布測量用4f光學系統，其特征在于：所述探測器是膠片或者CCD。