[實(shí)用新型]用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120070314.0 | 申請(qǐng)日: | 2011-03-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN202054892U | 公開(公告)日: | 2011-11-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 田華;桂鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/455 | 分類號(hào): | C23C16/455 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 鍍膜 工藝 噴淋 平裝 | ||
1.一種用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,所述噴淋頭的一側(cè)對(duì)著晶圓,另一側(cè)設(shè)有用于對(duì)噴淋頭進(jìn)行調(diào)平的三組調(diào)整機(jī)構(gòu),其特征在于,每個(gè)調(diào)整機(jī)構(gòu)采用蝸輪蝸桿副調(diào)整機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸輪蝸桿副調(diào)整機(jī)構(gòu)包括蝸輪和蝸桿,所述蝸輪和所述蝸桿相嚙合,所述蝸桿的一端與所述噴淋頭固定連接,所述蝸輪轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)帶動(dòng)蝸桿邊轉(zhuǎn)動(dòng)邊上下移動(dòng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸桿的一端通過隔熱層與所述噴淋頭固定連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸輪通過固定連接軸與一手輪固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸桿包括相連接的螺桿部和光桿部,所述蝸桿在螺桿部與蝸輪相嚙合,所述光桿部的外側(cè)端與所述噴淋頭固定連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸桿的外側(cè)設(shè)有蝸桿護(hù)套,所述蝸輪的外側(cè)設(shè)有蝸輪護(hù)套,所述蝸桿護(hù)套和所述蝸輪護(hù)套固定連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述蝸桿護(hù)套的外側(cè)端與頂蓋固定連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述用于鍍膜工藝的噴淋頭調(diào)平裝置,其特征在于:所述光桿部的外側(cè)端通過隔熱層與所述噴淋頭固定連接。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





