[實用新型]一種新型的多段工藝供氣集成裝置

有效

• 申請號: 201120059925.5
• 申請日: 2011-03-09
• 公開（公告）號: CN202047130U
• 公開（公告）日: 2011-11-23
• 發明（設計）人: 靳偉;李惠;李躍華
• 申請（專利權）人: 上海子創鍍膜技術有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54
• 代理公司: 上海衡方知識產權代理有限公司 31234
• 代理人: 王福新

技術領域

????本發明涉及到覆層形成材料的真空蒸發、濺射或離子注入進行鍍覆的供氣系統,尤其涉及到多段供氣集成系統和向反應室輸入氣體或在反應室中改性氣流的方法。?

背景技術

???作為當今被廣泛采用的物理氣相沉積技術的蒸發鍍膜，離子鍍膜和磁控濺射鍍膜，其工作環境要求在極為苛刻的真空狀態下,并需要往真空腔體中充入配比適當的工藝氣體，同時,真空腔體內氣體的均勻性也要求非常苛刻，其中,膜層質量及鍍膜工藝調整控制與充入氣體流量有著直接聯系，所以，工藝供氣系統是鍍膜生產工藝中核心的部分。?

目前，國內的鍍膜生產線采用的供氣系統存在著布局復雜，裝配繁瑣等現象，其雖然也能達到控制氣體種類和氣量的目的，但在實際使用過程中存在的缺點有：?

1、??????????工藝氣體的流量控制需要依靠經驗豐富的工藝工程師根據經驗來判斷輸入氣量，很難做到精確控制。

2、??????????供氣管道接入混亂和接口過多，給工藝氣體的配比以及檢漏造成很大難度，加大了設備的維修和保養的難度。另外，由于市場上單個真空閥門造價很高，接口過多，無形中也增加了設備的制造成本。?

????公開號為CN101497990A的中國專利披露了一種濺射鍍膜裝置，其介紹了一種通過氣體流量控制器來控制進氣通道的氣體種類和流量，并達到調整工藝氣體的分布狀況來實現對膜厚的均勻性進行在線調整的目的，該專利中，只對進氣通道的控制裝置做了改進，未對進氣管道的復雜性和繁瑣性進行改造。濺射鍍膜設備的安裝和日常維護保養的繁瑣性和復雜性，以及真空檢漏的難度都未得到解決。?

發明內容

?????本發明要解決的技術問題是，針對現有技術中進氣管道復雜性和繁瑣性的缺點，提供一種新型的多段工藝供氣集成裝置。?

為實現上述目的，本發明采用的技術方案是，一種新型的多段工藝供氣集成裝置，包括電磁閥、電磁閥板、通道管，其中，電磁閥設置在電磁閥板的上部，以管螺紋與電磁閥板密封連接，通道管設置在電磁閥板內，所述電磁閥板的側面設有入氣口，與入氣口所在側面相交的另一側面設有出氣口。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，所述入氣口可設為多段入氣口，所述出氣口可設為多段出氣口。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，所述的通管道，分為入氣通道管和出氣通道管，所述入氣通道管在入氣口和電磁閥之間起連接作用，所述出氣通道管在出氣口和電磁閥之間起連接作用。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，所述出氣口又分為主氣體出氣口和輔助氣體出氣口。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，所述出氣通道管又分為主氣體出氣通道管和輔助氣體出氣通道管，主氣體出氣通道管與主氣體出氣口相通，輔助氣體出氣通道管與輔助氣體出氣口相通。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，每個出氣口還通過軟管與質量流量控制器相連。?

進一步的技術方案，所述多段工藝供氣集成裝置，其中，所述質量流量控制器設置在真空手閥集成板上，所述真空手閥集成板內還設置有真空手閥，所述真空手閥集成板固定設置在真空腔體內。?

與現有技術相比，本發明的技術效果是，當需要對進氣通道進行檢測時，只需要關閉真空手閥來切斷真空腔體與外界的通道，來達到檢修通道的目的。?

由于采用電磁閥和電磁閥板，可以簡化進氣通道的管路，從而降低真空檢漏的難度，以及減少設備的安裝及日常維護保養的繁瑣性和復雜性。

下面結合附圖及實施例對本發明做進一步的說明。?

附圖說明

圖1為本發明多段工藝供氣集成裝置的整體布局示意圖；?

圖2為本發明多段工藝供氣集成裝置的電磁閥板內部布局圖；

圖3為本發明多段工藝供氣集成裝置的電磁閥板外部示意圖；

圖4為本發明多段工藝供氣集成裝置的電磁閥板側面示意圖；

圖5為本發明真空手閥的結構示意圖。

1-電磁閥板；2-電磁閥；3-質量流量控制器；4-真空手閥集成板；5-真空手閥；6-軟管；8-入氣通道管；9-主氣體出氣通道管；10-輔助氣體出氣通道管;11-入氣口；12-出氣口；120-主氣體出氣口，121-輔助氣體出氣口。?

具體實施方式

????本發明保護的是一種新型的多段工藝供氣集成裝置，只要是本領域技術人員了解本發明實施例，不經過創造性的勞動，僅是同等技術的替換，都屬于本發明的保護范圍。?