[實用新型]一種反射膜層有效
| 申請號： | 201120050160.9 | 申請日： | 2011-02-28 |
| 公開（公告）號： | CN202003044U | 公開（公告）日： | 2011-10-05 |
| 發明（設計）人： | 趙志宏;劉丹丹;季一勤;莊克文 | 申請（專利權）人： | 中國航天科工集團第三研究院第八三五八研究所 |
| 主分類號： | G02B1/10 | 分類號： | G02B1/10;B32B15/00 |
| 代理公司： | 核工業專利中心 11007 | 代理人： | 高尚梅 |
| 地址： | 300192*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 反射 | ||
【權利要求書】：
1.一種反射膜層，包括過渡膜層(2)，金屬反射膜層(3)和保護膜層(4)，其特征在于：通過過渡膜層(2)將金屬反射膜層(3)沉積于基底(1)表面，再在金屬反射膜層(3)上沉積保護膜層(4)。
2.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：過渡膜層(2)的材料為鉻。
3.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：以真空蒸發的方式沉積過渡膜層(2)和金屬反射膜層(3)。
4.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：所述保護膜層(4)的材料為克氏硬度不小于1000Kg/mm2，并且為在可見及紅外波段均透光的材料。
5.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：以離子束濺射或離子束反應濺射的方式沉積保護膜層(4)。
6.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：所述過渡膜層(2)的厚度為30nm～500nm。
7.根據權利要求1所述的一種反射膜層，其特征在于：所述金屬反射膜層(3)的厚度為20nm～2000nm。
8.根據權利要求1所述的一種金屬反射膜層，其特征在于：所述保護膜層(4)的厚度為20nm～1000nm。
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