[實用新型]一種反射膜層

有效

• 申請號: 201120050160.9
• 申請日: 2011-02-28
• 公開（公告）號: CN202003044U
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發明（設計）人: 趙志宏;劉丹丹;季一勤;莊克文
• 申請（專利權）人: 中國航天科工集團第三研究院第八三五八研究所
• 主分類號: G02B1/10
• 分類號: G02B1/10;B32B15/00
• 代理公司: 核工業專利中心 11007
• 代理人: 高尚梅

技術領域

本實用新型涉及一種膜層，特別是涉及一種復合的反射膜層。

背景技術

在光學零件表面鍍制反射膜層，經常會采用鍍制工藝相對簡單的金屬膜層，如金膜、銀膜和鋁膜等。但金屬膜層較軟，當膜層表面受到沾染時不利于清潔。傳統的方法是在鍍制金屬膜層后再在其表面沉積一層保護膜層，但為了保證反射膜層的反射效率膜層很薄，不耐擦拭。如美國專利5036767“用于激光引爆裝置的窗口”中涉及到的反射膜層。但該膜層僅能用于可見至近紅外波段范圍，且未充分考慮保護膜層的硬度及其光學性能。

發明內容

本實用新型的目的在于提供一種復合的反射膜層，解決傳統金屬反射膜層不耐擦拭的問題，并可實現在較寬的光譜范圍內膜層反射曲線的調制。

本實用新型是這樣實現的：

一種反射膜層，包括過渡膜層，金屬反射膜層和保護膜層，其中：通過過渡膜層將金屬反射膜層沉積于基底表面，再在金屬反射膜層上沉積保護膜層。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：過渡膜層的材料為鉻。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：以真空蒸發的方式沉積過渡膜層和金屬反射膜層。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：保護膜層的材料為克氏硬度不小于1000Kg/mm²，并且為在可見及紅外波段均透光的材料。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：以離子束濺射或離子束反應濺射的方式沉積保護膜層。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：所述過渡膜層的厚度為30nm～500nm。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：所述金屬反射膜層的厚度為20nm～2000nm。

如上所述的一種金屬反射膜層，其中：所述保護膜層的厚度為20nm～1000nm。

本實用新型的有益效果是：

本實用新型采用沉積過渡層的方法，使金屬反射膜層能夠牢固的附著于基底表面。在其上鍍制的硬質保護膜層采用離子束濺射的方法沉積，而且因膜層厚度較大，故可以實現更好的保護效果并耐擦拭。另外，通過沉積不同厚度的硬質膜層，可實現從可見至長波紅外范圍內反射膜層的反射光譜范圍的調節。

附圖說明

圖1是本實用新型的一種反射膜層的剖面示意圖；

圖中：1.基底，2.過渡膜層，3.金屬反射膜層，4.保護膜層。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的一種反射膜層進行介紹：

圖1中的基底1是金屬、光學鏡片材料等加工的、帶有光學應用表面的零件，其作用是反射膜層的支撐結構，反射膜層是在基底表面沉積的。

在充分清潔待鍍膜的基底表面后，將其放置入真空蒸發沉積裝置內沉積過渡膜層2。過渡膜層2的膜層材料為鉻，過渡膜層的厚度為30nm～500nm。該沉積過程為本領域技術人員的公知常識。對于金屬基底，可以不沉積過渡膜層2；但對于光學鏡片材料基底，則需要沉積過渡膜層2，增加反射膜層與基底1間的結合強度。

在充分清潔待鍍膜的基底表面或沉積過渡膜層后，將其放置入真空蒸發沉積裝置內沉積金屬反射層3。金屬反射膜層3的厚度為20nm～2000nm。上述過程為本領域技術人員的公知常識。

待沉積金屬反射膜層3完畢的零件取出后，不擦拭其表面，直接放置入離子束濺射鍍膜機中進行保護膜層4的沉積。沉積參數為，束流：50～700mA；束壓：300～2000V。保護膜層4的厚度為20nm～1000nm。保護膜層4的材料為克氏硬度不小于1000Kg/mm²，并且為在可見及紅外波段均透光的材料。

上述的金屬指金、銀和鋁。

上述的基底表面指在金屬、各種光學鏡片材料上加工的、需鍍制膜層的光學應用表面。過渡膜層是用于保證金屬反射層牢固附著與基底表面的。金屬反射層是用于反射光線的，為基底表面附著的一薄層金屬。保護膜層是用于保護金屬反射層的，同時還可通過調節其沉積厚度而達到不同的光學效果。