[發明專利]從鍍液中去除雜質的方法有效
| 申請號： | 201110463300.X | 申請日： | 2011-12-28 |
| 公開（公告）號： | CN102560570A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發明（設計）人： | 羽切義幸 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C25D3/32 | 分類號： | C25D3/32;C25D3/60 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 樊云飛 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍液中 去除 雜質 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種從無電鍍錫或錫合金鍍液中去除雜質的方法，包括：
a)提供包含一種或多種錫離子源和硫脲或硫脲化合物的溶液；且
b)在溶液中添加足夠量的苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽，以產生沉淀。
2.如權利要求1所述的方法，進一步包括在銅或銅合金上鍍覆錫或錫合金層。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，在銅或銅合金上無電鍍鍍覆后添加苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽到溶液中。
4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，當苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽加入溶液時，溶液的溫度比鍍覆溫度高或低10℃。
5.如權利要求1所述的方法，其特征在于，添加到溶液中的苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽的量為5到200g/L。
6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，添加到溶液中的苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽的量為20到100g/L。
7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，添加到溶液中的苯磺酸、苯磺酸水合物或其鹽的量為50到100g/L。
8.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述沉淀包括銅，鎳，鋅，鉻，鉬或鎢。
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