[發(fā)明專利]透明導(dǎo)電膜及其形成方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110461274.7
• 申請(qǐng)日: 2011-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103137238A
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭信良;黃承鈞;黃淑娟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): H01B1/04
• 分類號(hào): H01B1/04;H01B1/18;H01B1/24;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

1.一種透明導(dǎo)電膜，包括：

一基材；以及

一導(dǎo)電復(fù)材，位于該基材上，所述導(dǎo)電復(fù)材包括：

一導(dǎo)電碳材；以及

一表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物，

其中該導(dǎo)電碳材是與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物接觸，形成該導(dǎo)電復(fù)材。

2.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物是以分層或混摻的結(jié)構(gòu)，形成該導(dǎo)電復(fù)材。

3.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物為交錯(cuò)排列的多層結(jié)構(gòu)，形成該導(dǎo)電復(fù)材。

4.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該導(dǎo)電碳材為納米碳管、石墨烯、氧化石墨烯、石墨烯納米帶、或上述的組合。

5.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物的形狀為粒狀、片狀、網(wǎng)狀、膜狀、或上述的組合。

6.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物為表面改性有拉電子基的硅、錫、鈦、鋅、鋁、鋯、銦、銻、鎢、釔、鎂、或鈰的氧化物、硅酸鹽、氫氧化物、碳酸鹽、硫酸鹽、磷酸鹽、硫化物、或上述的組合。

7.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物是一具有拉電子基的硅烷接枝至非碳無(wú)機(jī)物，該具有拉電子基的硅烷是X-Si(R₁)(R₂)(R₃)，X為拉電子基團(tuán)或含有拉電子基團(tuán)的分子鏈，R₁、R₂及R₃三者中至少一者為鹵素或-OR，R為C₁-C₄的烷基，其中該拉電子基團(tuán)是-NO₂、-CN、-COCH₃、-SO₃H、-SO₂CH₃、-F、-Cl、-Br、或上述的組合。

8.如權(quán)利要求7所述的透明導(dǎo)電膜，其中該具有拉電子基的硅烷是三氟丙烷三甲氧基硅烷、氯甲基三甲氧基硅烷、或二硝基苯基胺基三乙氧基丙基硅烷。

9.如權(quán)利要求1所述的透明導(dǎo)電膜，其中該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物是以混摻的結(jié)構(gòu)，形成該導(dǎo)電復(fù)材，且該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物的重量比介于1∶3至1∶5之間。

10.一種透明導(dǎo)電膜的形成方法，包括：

提供一基材；以及

形成一導(dǎo)電復(fù)材于該基材上，該導(dǎo)電復(fù)材包括：

一導(dǎo)電碳材；以及

一表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物，且該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物接觸。

11.如權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電膜的形成方法，其中該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物是以分層或混摻的結(jié)構(gòu)，形成該導(dǎo)電復(fù)材。

12.如權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電膜的形成方法，其中該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物的形成步驟包括將具有拉電子基的硅烷與非碳無(wú)機(jī)物于氣相或液相進(jìn)行水解-縮合或取代反應(yīng)。

13.如權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電膜的形成方法，其中該導(dǎo)電碳材與該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物為交錯(cuò)排列的多層結(jié)構(gòu)，形成該導(dǎo)電復(fù)材。

14.如權(quán)利要求10所述的透明導(dǎo)電膜的形成方法，其中該表面改性有拉電子基的非碳無(wú)機(jī)物為表面改性有拉電子基的硅、錫、鈦、鋅、鋁、鋯、銦、銻、鎢、釔、鎂、或鈰的氧化物、硅酸鹽、氫氧化物、碳酸鹽、硫酸鹽、磷酸鹽、硫化物、或上述的組合。