[發明專利]有機EL裝置的制造方法及有機EL裝置制造用基板無效
| 申請號: | 201110460440.1 | 申請日: | 2011-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN102569346A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發明(設計)人: | 并河亮 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52;H05B33/02;H05B33/10 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;李茂家 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機 el 裝置 制造 方法 用基板 | ||
1.一種有機EL裝置的制造方法,其特征在于,其包括:
準備其上層疊有樹脂基板的粘接片的工序;
介由所述粘接片將所述樹脂基板粘接在硬質基板上的工序;
通過在所述樹脂基板上形成有機EL元件,從而制造具備所述樹脂基板和所述有機EL元件的有機EL裝置的工序;以及
從所述硬質基板剝離所述有機EL裝置的工序,其中,
所述粘接片包括:
貼附于所述硬質基板的第一粘接劑層、和
在所述第一粘接劑層上形成的、貼附于所述樹脂基板的第二粘接劑層,
所述第一粘接劑層的粘接力與所述第二粘接劑層的粘接力不同。
2.根據權利要求1所述的有機EL裝置的制造方法,其特征在于,所述第一粘接劑層的粘接力大于所述第二粘接劑層的粘接力。
3.根據權利要求1所述的有機EL裝置的制造方法,其特征在于,支撐片介于所述第一粘接劑層與所述第二粘接劑層之間。
4.一種有機EL裝置制造用基板,其特征在于,所述有機EL裝置制造用基板用于有機EL裝置的制造方法,該制造方法包括:
準備其上層疊有樹脂基板的粘接片的工序;
介由所述粘接片將所述樹脂基板粘接在硬質基板上的工序;
通過在所述樹脂基板上形成有機EL元件,從而制造具備所述樹脂基板和所述有機EL元件的有機EL裝置的工序;以及
從所述硬質基板剝離所述有機EL裝置的工序,
所述有機EL裝置制造用基板包括:
所述粘接片、和
在所述粘接片上層疊的所述樹脂基板,
所述粘接片包括:
貼附于所述硬質基板的第一粘接劑層、和
在所述第一粘接劑層上形成的、貼附于所述樹脂基板的第二粘接劑層,
所述第一粘接劑層的粘接力與所述第二粘接劑層的粘接力不同。
5.根據權利要求4所述的有機EL裝置制造用基板,其特征在于,所述第一粘接劑層的粘接力大于所述第二粘接劑層的粘接力。
6.根據權利要求4所述的有機EL裝置制造用基板,其特征在于,其具備介于所述第一粘接劑層與所述第二粘接劑層之間的支撐片。
7.根據權利要求4所述的有機EL裝置制造用基板,其特征在于,其具備在所述樹脂基板的上表面形成的、用于防止氣體透過所述樹脂基板的屏蔽層。
8.根據權利要求7所述的有機EL裝置制造用基板,其特征在于,其具備在所述屏蔽層的上表面形成的透明導電性薄膜。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





