[發明專利]母版檢測清潔裝置

無效

• 申請號: 201110459661.7
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN103792786A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 田玉民;羅向輝
• 申請（專利權）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號: G03F1/84
• 分類號: G03F1/84;G03F1/82
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;余剛

技術領域

本發明涉及清潔技術領域，具體而言，涉及一種母版檢測清潔裝置。

背景技術

在現有技術中，三電極表面放電型PDP結構，主要有前后玻璃基板組成，在前后玻璃基板上分別制作有透明(ITO)電極、匯流(Bus)電極、尋址(Add)電極、障壁(Rib)圖形等線條圖形，由于圖形的精細度及高分辨率的要求，這些圖形的制作，在工藝上采用主流的光刻方法進行。光刻時使用大面積曝光用曝光設備，曝光設備所使用的母版尺寸長度一般超過2m，寬度超過1m，用這么大尺寸的母版作為掩膜版，復制母版上的圖形。母版的潔凈程度對曝光結果有著重要的影響，如果母版上有異物存在則遮擋住曝光機光源部分過來的紫外(UV)光，使母版上的圖形不能很好的復制到玻璃基板上，極易在玻璃基板形成斷路，使產品的線條出現缺陷。而且在生產中也會造成批次不良，直接影響后工序的生產。而在現有技術中，母版清潔完畢后主要是靠人眼檢查母版上有無異物落上，人眼檢查容易漏檢，較小的異物由于人眼分辨率有限不能很好的發現，而且由于人員的接近造成母版二次污染，有可能帶來新的異物污染，最終還是影響曝光結果。

如果能在母版進入曝光機曝光位置之前對母版圖形進行檢查并且對檢查到的異物進行清理，這樣可以防止母版上異物的漏檢，使母版上沒有異物存在，從而可以避免曝光后玻璃基板上線條圖形的斷線。斷線的減少或者得到徹底解決可以有效地提高產品的一次通過率，在提高生產線的產量的同時，也降低了產品的生產成本。

發明內容

本發明旨在提供一種母版檢測清潔裝置，以解決現有技術中母版上有異物存留的問題。

為了實現上述目的，本發明提供了一種母版檢測清潔裝置，包括：可移動的母版夾持裝置；檢測裝置，設置在母版夾持裝置的一側，用于檢測待清潔母版的清潔度；清潔裝置，設置在檢測裝置的下游側。

進一步地，母版夾持裝置為夾具，具有用于夾持母版的兩個相對的邊沿處的夾持部。

進一步地，檢測裝置包括：攝像頭，為形成一排的多個，多個攝像頭至少覆蓋母版的寬度范圍；圖像處理裝置，與攝像頭連接，用于發出清潔指令。

進一步地，清潔裝置包括：用于清潔母版的第一清潔裝置和用于清潔第一清潔裝置的第二清潔裝置。

進一步地，第一清潔裝置包括：位于上方的第一粘性滾輪和位于下方的第二粘性滾輪，第一粘性滾輪與二粘性滾輪可轉動地設置在母版的兩側。

進一步地，第一裝置清潔母版的同時，第二清潔裝置對第一清潔裝置進行清潔。

進一步地，第二清潔裝置包括：第一粘性帶和第二粘性帶，第一粘性帶與第二粘性帶均具有用于清潔第一清潔裝置的粘性面。

在本發明的技術方案中，母版檢測清潔裝置包括：母版夾持裝置、檢測裝置和清潔裝置。其中，母版夾持裝置可移動地設置在母版檢測清潔裝置上；檢測裝置設置在母版夾持裝置的一側，用于檢測待清潔母版的清潔度；清潔裝置設置在檢測裝置的下游側。本發明的母版檢測清潔裝置，通過檢測裝置檢測母版的是否存在異物，并利用清潔裝置對母版上的異物進行清潔，有效地防止了母版上的異物發生漏檢的現象，確保母版上無異物的存在，杜絕了在生產過程中的由異物污染造成的產品上的公共缺陷。

附圖說明

構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發明的進一步理解，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：

圖1示出了根據本發明的母版檢測清潔裝置的實施例的檢測裝置的示意圖；以及

圖2示出了圖1的母版檢測清潔裝置的清潔裝置的示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發明。

圖1示出了根據本發明的母版檢測清潔裝置的實施例的檢測裝置的示意圖，圖2示出了圖1的母版檢測清潔裝置的清潔裝置的示意圖。結合參見圖1至圖2，從圖中可以看出，本實施例中的母版10清潔裝置包括：母版夾持裝置、檢測裝置20和清潔裝置。其中，母版夾持裝置可移動地設置在母版檢測清潔裝置上；檢測裝置20設置在母版夾持裝置的一側，用于檢測待清潔母版10的清潔度；清潔裝置設置在檢測裝置20的下游側。本實施例的母版檢測清潔裝置，通過檢測裝置20檢測母版10的是否存在異物，并利用清潔裝置對母版10上的異物進行清潔，有效地防止了母版10上的異物發生漏檢的現象，確保母版10上無異物的存在，杜絕了在生產過程中的由異物污染造成的產品上的公共缺陷。