[發明專利]母版檢測清潔裝置無效
| 申請號： | 201110459661.7 | 申請日： | 2011-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN103792786A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 田玉民;羅向輝 | 申請（專利權）人： | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/84 | 分類號： | G03F1/84;G03F1/82 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 吳貴明;余剛 |
| 地址： | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 母版 檢測 清潔 裝置 | ||
1.一種母版檢測清潔裝置，其特征在于，包括：
可移動的母版夾持裝置；
檢測裝置(20)，設置在所述母版夾持裝置的一側，用于檢測待清潔母版(10)的清潔度；
清潔裝置，設置在所述檢測裝置(20)的下游側。
2.根據權利要求1所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述母版夾持裝置為夾具，具有用于夾持所述母版的兩個相對的邊沿處的夾持部。
3.根據權利要求1所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述檢測裝置(20)包括：
攝像頭，為形成一排的多個，多個所述攝像頭至少覆蓋所述母版(10)的寬度范圍；
圖像處理裝置，與所述攝像頭連接，用于發出清潔指令。
4.根據權利要求1所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置包括：用于清潔所述母版(10)的第一清潔裝置和用于清潔所述第一清潔裝置的第二清潔裝置。
5.根據權利要求4所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述第一清潔裝置包括：
位于上方的第一粘性滾輪(31)和位于下方的第二粘性滾輪(32)，所述第一粘性滾輪(31)與所述二粘性滾輪(32)可轉動地設置在所述母版(10)的兩側。
6.根據權利要求5所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述第一裝置清潔所述母版(10)的同時，所述第二清潔裝置對所述第一清潔裝置進行清潔。
7.根據權利要求6所述的母版檢測清潔裝置，其特征在于，所述第二清潔裝置包括：第一粘性帶和第二粘性帶，所述第一粘性帶與所述第二粘性帶均具有用于清潔所述第一清潔裝置的粘性面。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
