[發明專利]刻蝕裝置和刻蝕方法

無效

• 申請號: 201110459321.4
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN103794428A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 宋利建;車志廣
• 申請（專利權）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號: H01J9/00
• 分類號: H01J9/00;H01J9/02
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;余剛

技術領域

本發明涉及光刻蝕技術領域，具體而言，涉及一種刻蝕裝置和刻蝕方法。

背景技術

等離子顯示屏是一種自發光、重量輕、視角寬、厚度薄、全數字化、動態顯示效果好的新型平板顯示器件。

顯示器中一些部件比如維持顯示電極、匯流電極都需要使用光刻蝕工藝，該工藝都需要使用刻蝕裝置。其中維持放電電極之間隙大小對顯示單元放電著火電壓及電壓裕度影響很大。現有技術中的刻蝕裝置包括并行設置的噴管和與噴管連接的噴嘴，使用時，基板朝向刻蝕裝置移動，移動至刻蝕裝置的正下方，采用噴嘴噴淋的方式進行刻蝕以形成電極。

利用上述的刻蝕裝置易出現刻蝕不均勻的問題，進而造成制得的匯流(BUS)電極的寬度不均勻。

發明內容

本發明旨在提供一種刻蝕裝置和刻蝕方法，以解決現有技術中刻蝕不均勻的問題。

為了實現上述目的，根據本發明的一個方面，提供了一種刻蝕裝置，包括：并行設置的多個噴管和與噴管連接的第一噴嘴，刻蝕裝置還包括：噴液裝置，位于噴管的上游側，噴液裝置包括：液體注入部；液體存儲部，與液體注入部連通；第二噴嘴，位于液體存儲部的底部。

進一步地，液體注入部包括多個并行設置的軟管。

進一步地，液體存儲部包括本體部和收縮部，收縮部位于本體部的下方并朝向下方逐漸收縮地延伸，第二噴嘴連接在收縮部的底部。

進一步地，第二噴嘴具有可調的出液間隙。

進一步地，第二噴嘴的出液間隙沿垂直于噴管的方向延伸。

根據本發明的另一方面，提供了一種刻蝕方法，包括以下步驟：利用噴液裝置的第二噴嘴使刻蝕液自然流到待刻蝕部件的表面；利用與噴管連接的第一噴嘴向待刻蝕部件的表面噴射刻蝕液從而制得電極。

應用本發明的技術方案，在刻蝕裝置中增加了噴液裝置，設置在噴管的上游側，該噴液裝置包括：液體注入部、液體存儲部和第二噴嘴，其中，液體存儲部與液體注入部連通；第二噴嘴位于液體存儲部的底部。應用本發明的噴液裝置，使得刻蝕液通過液體注入部注入至液體存儲部內，刻蝕液通過自身重力作用從第二噴嘴流出，位于第二噴嘴下方的基板移動，使得液體連續不斷的流到該基板的表面，由于噴射壓力很小，不易造成不均勻分布。這樣，可以讓刻蝕液均勻的噴涂在基板表面，這樣有利于改善基板表面與刻蝕液的親和力，減少由于噴嘴直接噴射造成的圓弧狀不均勻。提高顯示電極的均勻性，提高放電單元的穩定性。

附圖說明

構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發明的進一步理解，本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明，并不構成對本發明的不當限定。在附圖中：

圖1示出了根據本發明的刻蝕裝置的實施例的俯視示意圖，其中圖中也示出了待刻蝕的基板；

圖2示出了圖1的刻蝕裝置的噴液裝置的剖視示意圖；以及

圖3示出了根據本發明的刻蝕方法的實施例的流程示意圖。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發明。

發明人經過一系列的試驗驗證，刻蝕裝置的刻蝕效果不僅受感光劑性質和原版狀態的制約，更受到刻蝕條件如刻蝕液的濃度、溫度、疲勞程度以及刻蝕時間等的影響。具體的情況如下：

濃度的影響：刻蝕液的濃度，一般是指刻蝕主劑的含量。刻蝕液濃度不足，不僅會增加刻蝕時間，而且容易造成刻蝕不徹底。濃度過大，則刻蝕時間加快，整個過程難以控制，易造成刻蝕過度，侵蝕溶解受光的感光層，降低附著力。

溫度的影響：在其他刻蝕條件相對穩定的情況下。刻蝕溫度越高，刻蝕速度越快，反之則越慢。一般刻蝕溫度應控制在35℃左右。溫度隨噴嘴角度變化而變化，角度越小噴射到基板上的溫度越高，扇形角度越大噴射到基板上的溫度越低。

壓力的影響：壓力隨噴嘴角度變化而變化，角度越小噴射到基板上的壓力越大，扇形角度越大噴射到基板上的壓力越小。

發明人經一系列試驗發現，噴嘴在噴射時溫度分布是有差異的，扇形外部和中部有差異，噴射到玻璃基板上的壓力也有偏差，從而造成了刻蝕的圓弧狀波紋，進而使得顯示電極刻蝕不均勻，影響了放電單元的穩定性。

針對上述問題，發明人調整了第一噴嘴類型，變更搖擺頻率都無法完全消除這種不均勻的波紋，經過分析研究，發現刻蝕液與基板表面的浸潤型不好容易產生此類不均勻。