[發明專利]刻蝕裝置和刻蝕方法無效
| 申請號： | 201110459321.4 | 申請日： | 2011-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN103794428A | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 宋利建;車志廣 | 申請（專利權）人： | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號： | H01J9/00 | 分類號： | H01J9/00;H01J9/02 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 吳貴明;余剛 |
| 地址： | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 刻蝕 裝置 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種刻蝕裝置，包括：并行設置的多個噴管(1)和與所述噴管(1)連接的第一噴嘴，其特征在于，所述刻蝕裝置還包括：
噴液裝置(3)，位于噴管(1)的上游側，所述噴液裝置(3)包括：
液體注入部；
液體存儲部(5)，與所述液體注入部連通；
第二噴嘴(6)，位于所述液體存儲部(5)的底部。
2.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述液體注入部包括多個并行設置的軟管(4)。
3.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述液體存儲部(5)包括本體部(51)和收縮部(52)，所述收縮部(52)位于所述本體部(51)的下方并朝向下方逐漸收縮地延伸，所述第二噴嘴(6)連接在所述收縮部(52)的底部。
4.根據權利要求1所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述第二噴嘴(6)具有可調的出液間隙。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的刻蝕裝置，其特征在于，所述第二噴嘴(6)的出液間隙沿垂直于所述噴管(1)的方向延伸。
6.一種刻蝕方法，其特征在于，使用權利要求1至5中任一項所述的刻蝕裝置，包括以下步驟：
利用噴液裝置(3)的第二噴嘴(6)使刻蝕液自然流到待刻蝕部件的表面；
利用與噴管(1)連接的第一噴嘴向所述待刻蝕部件的表面噴射刻蝕液從而制得電極。
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