[發(fā)明專利]載物裝置及曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110459299.3
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN103186054A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 伍強;郝靜安
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別涉及一種載物裝置和曝光裝置。

背景技術(shù)

光刻作為半導(dǎo)體制造過程中的一道非常重要的工序，它是將掩模版上的圖形通過曝光轉(zhuǎn)移到晶圓上的工藝過程，被認(rèn)為是大規(guī)模集成電路制造中的核心步驟。半導(dǎo)體制造中一系列復(fù)雜而耗時的光刻工藝主要是由相應(yīng)的曝光機來完成。而光刻技術(shù)的發(fā)展或者說曝光機技術(shù)的進步主要是圍繞著線寬、套刻精度和生產(chǎn)率這三大指標(biāo)展開的。

在步進投影式曝光機中，晶圓載物臺用于承載晶圓，在驅(qū)動裝置的作用下做同步運動。在目前大多數(shù)的步進投影式曝光機中，晶圓載物臺的底部具有相應(yīng)的氣浮結(jié)構(gòu)，通過空氣的壓力使晶圓載物臺浮起，以減小外界振動對晶圓載物臺的干擾，有利于精確控制高速運動的晶圓載物臺的位置。

參考圖1，圖1為現(xiàn)有晶圓載物臺的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，所述晶圓載物臺包括第一表面101、與第一表面101相對的第二表面102、以及位于第一表面101和第二表面102之間的側(cè)壁103，第一表面101、第二表面102和側(cè)壁103構(gòu)成方形的晶圓載物臺；所述晶圓載物臺的第一表面101還具有吸盤(圖中未示出)，用于固定晶圓105；所述晶圓載物臺的側(cè)壁103具有測量載物臺位置的位置測量裝置104，用以測量晶圓載物臺的位置，所述位置測量裝置104為光干涉計，光干涉計的發(fā)射和接收端設(shè)置在固定不動的基座(圖中未示出)上，光干涉計的可動反射鏡設(shè)置在側(cè)壁103上。

更多關(guān)于晶圓載物臺的介紹請參考公開號為US2008/0192219A1的美國專利。

現(xiàn)有的晶圓載物臺在運動時，由于空氣的擾動，載物臺的位置不能精確控制，影響套刻的精度。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明解決的問題是提供一種載物裝置和曝光裝置，減少空氣的擾動，提高載物臺位置的精確度。

為解決上述問題，本發(fā)明提供了一種載物裝置，包括：

載物臺，所述載物臺包括第一表面、與第一表面相對的第二表面、以及位于第一表面和第二表面之間的側(cè)壁，其特征在于，所述載物臺還包括連接所述側(cè)壁與第一表面和第二表面的交界區(qū)，所述交界區(qū)呈弧形，減小載物臺運動時空氣對載物臺的阻力和空氣產(chǎn)生的擾動。

可選的，所述弧形為圓弧、橢圓弧、對數(shù)曲線弧、指數(shù)曲線弧、二次曲線弧、拋物曲線弧的一種。

可選的，所述弧形為圓弧、橢圓弧、對數(shù)曲線弧、指數(shù)曲線弧、二次曲線弧、拋物曲線弧的兩種或兩種以上的組合。

可選的，所述載物臺的側(cè)壁設(shè)置有載物臺位置測量裝置。

可選的，所述測量裝置為光干涉計。

可選的，所述載物臺下部包括用于使載物臺浮起的空氣墊裝置。

可選的，所述載物臺第一表面包括用于固定晶圓的吸盤或晶圓夾持器。

可選的，所述第一表面和第二表面的面積大于晶圓的面積。

可選的，所述弧形的凸起面遠(yuǎn)離載物臺的中心。

本發(fā)明還提供了一種曝光裝置，包括：至少一個載物臺，所述載物臺包括第一表面、與第一表面相對的第二表面、位于第一表面和第二表面之間的側(cè)壁、以及連接所述側(cè)壁與第一表面和第二表面的交界區(qū)，所述交界區(qū)呈弧形，所述第一表面用于放置晶圓，曝光裝置對放置在第一表面上的晶圓進行曝光。

可選的，所述曝光裝置為浸入式曝光裝置。

可選的，所述載物臺的個數(shù)為兩個。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明技術(shù)方案具有以下優(yōu)點：

側(cè)壁與第一表面和第二表面通過弧形的交界區(qū)連接，相當(dāng)于將現(xiàn)有技術(shù)中的方形載物臺的側(cè)壁與上下表面的交角弧形化，當(dāng)載物臺運動時，弧形的交界區(qū)會減小空氣對載物臺的阻力，減小載物臺運動過程中空氣的擾動，使得光干涉計的光在側(cè)壁的可動反射鏡的反射和反射光在空氣中的傳輸不會受到空氣擾動的影響，提高了光干涉計測量的載物臺的精度，使得載物臺上晶片的計量位置不會有偏差，在對載物臺上的晶圓進行曝光時，提高了曝光的準(zhǔn)確度和套刻的精度。另外，由于載物臺在運行時，空氣對其阻力減小，可以減小驅(qū)動裝置熱量的產(chǎn)生，減小了能耗。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有晶圓載物臺的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例載物裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為圖2沿切割線A-B方向剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為圖3所示的交界區(qū)的局部放大結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式