[發明專利]載物裝置及曝光裝置有效
| 申請號: | 201110459299.3 | 申請日: | 2011-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN103186054A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 伍強;郝靜安 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 201203 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 曝光 | ||
1.一種載物裝置,包括:
載物臺,所述載物臺包括第一表面、與第一表面相對的第二表面、以及位于第一表面和第二表面之間的側壁,其特征在于,所述載物臺還包括連接所述側壁與第一表面和第二表面的交界區,所述交界區呈弧形,減小載物臺運動時空氣對載物臺的阻力和空氣產生的擾動。
2.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述弧形為圓弧、橢圓弧、對數曲線弧、指數曲線弧、二次曲線弧、拋物曲線弧的一種。
3.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述弧形為圓弧、橢圓弧、對數曲線弧、指數曲線弧、二次曲線弧、拋物曲線弧的兩種或兩種以上的組合。
4.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述載物臺的側壁設置有載物臺位置測量裝置。
5.如權利要求4所述的載物裝置,其特征在于,所述測量裝置為光干涉計。
6.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述載物臺下部包括用于使載物臺浮起的空氣墊裝置。
7.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述載物臺第一表面包括用于固定晶圓的吸盤或晶圓夾持器。
8.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述第一表面和第二表面的面積大于晶圓的面積。
9.如權利要求1所述的載物裝置,其特征在于,所述弧形的凸起面遠離載物臺的中心。
10.一種曝光裝置,其特征在于,包括:至少一個載物臺,所述載物臺包括第一表面、與第一表面相對的第二表面、位于第一表面和第二表面之間的側壁、以及連接所述側壁與第一表面和第二表面的交界區,所述交界區呈弧形,所述第一表面用于放置晶圓,曝光裝置對放置在第一表面上的晶圓進行曝光。
11.如權利要求10所述的曝光裝置,其特征在于,所述曝光裝置為浸入式曝光裝置。
12.如權利要求10所述的曝光裝置,其特征在于,所述載物臺的個數為兩個。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中芯國際集成電路制造(上海)有限公司,未經中芯國際集成電路制造(上海)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110459299.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





