[發明專利]一種涂膠顯影機及其使用方法無效
| 申請號： | 201110457599.8 | 申請日： | 2011-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN103186049A | 公開（公告）日： | 2013-07-03 |
| 發明（設計）人： | 趙迎春;羅明輝;吳鑄偉;陳景智 | 申請（專利權）人： | 北大方正集團有限公司;深圳方正微電子有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/16 | 分類號： | G03F7/16;G03F7/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭潤湘 |
| 地址： | 100871 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 涂膠 顯影 及其 使用方法 | ||
1.一種涂膠顯影機，包括：托盤(3)和位于所述托盤(3)中心位置的吸盤(2)，其特征在于，還包括：設置在所述托盤(3)上的多個背洗孔(4)，所述多個背洗孔(4)圍繞在所述吸盤(2)外側，用于在硅片(1)顯影完成后對所述硅片(1)沖水，清洗所述硅片(1)背面的顯影液。
2.如權利要求1所述的涂膠顯影機，其特征在于，圍繞在所述吸盤(2)外側的所述多個背洗孔(4)以所述吸盤(2)的中心為中心成圓環形排列。
3.如權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于，各所述背洗孔(4)與所述吸盤(2)的外邊緣的距離為1mm-3mm。
4.如權利要求2所述的涂膠顯影機，其特征在于，所述多個背洗孔(4)之間間隔均勻。
5.如權利要求1-4任一項所述的涂膠顯影機，其特征在于，各所述背洗孔(4)的孔徑為0.3mm-0.5mm。
6.如權利要求1-4任一項所述的涂膠顯影機，其特征在于，還包括：設置在所述托盤(3)上的圍繞在所述多個背洗孔(4)外側的擋圈(5)。
7.如權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于，所述擋圈(5)的上邊緣與所述吸盤(2)吸附的硅片(1)的距離為1.5mm。
8.如權利要求6所述的涂膠顯影機，其特征在于，所述擋圈(5)的形狀為以吸盤(2)的中心為中心的環形。
9.如權利要求8所述的涂膠顯影機，其特征在于，所述環形擋圈(5)與所述吸盤(2)的外邊緣的距離為4mm-7mm。
10.一種使用如權利要求1-9任一項的涂膠顯影機顯影的方法，其特征在于，包括：
當硅片的中心位置與涂膠顯影機的吸盤的中心位置對齊后，啟動所述吸盤吸住所述硅片；
在所述硅片正面噴涂顯影液顯影完成后，所述吸盤帶動所述硅片旋轉，同時，所述涂膠顯影機的背洗孔對所述硅片沖水，清洗所述硅片背面的顯影液；
在沖水完成后，所述吸盤帶動所述硅片旋轉，直至所述硅片背面的水全部甩干。
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