[發(fā)明專利]等離子顯示屏的介質(zhì)保護(hù)膜及其制作方法和含有其的等離子顯示屏

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110455920.9
• 申請(qǐng)日: 2011-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN102522296A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邢芳麗;羅向輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號(hào): H01J11/40
• 分類號(hào): H01J11/40;H01J11/10
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;余剛

1.一種等離子顯示屏介質(zhì)保護(hù)膜的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)在介質(zhì)層上形成晶種層；

2)在所述晶種層上形成所述介質(zhì)保護(hù)膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述形成晶種層的方法包括：將晶種通過漿料涂布、噴涂、靜電吸附、物理摩擦或化學(xué)反應(yīng)生成的方式布置在所述介質(zhì)層上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述形成介質(zhì)保護(hù)膜的方法是將介質(zhì)保護(hù)膜材料通過真空沉積法形成在所述晶種層上。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的制作方法，其特征在于，所述晶種包括：

MgO單晶顆粒；或者

摻雜型MgO晶體，其中，摻雜元素包括Ca、Zn、Si、Sc、Ti和Ni中的一種或多種，所述摻雜型MgO晶體為物理混合物、固溶體或合金；或者

選自由碳納米管、ZnO、BeO、CaO、SrO、BaO、La₂O₅、LaB₆、Mo和W組成的組中的任意一種或多種。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制作方法，其特征在于，所述真空沉積法包括：電子束蒸鍍法、離子鍍法、濺射法和化學(xué)氣相沉積法。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述晶種的粒徑為5～1000nm，所述晶種層的厚度為10～1000nm，覆蓋度為0.1～100％。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述介質(zhì)保護(hù)膜的厚度為50～1000nm。

8.一種等離子顯示屏的介質(zhì)保護(hù)膜，其特征在于，所述介質(zhì)保護(hù)膜通過權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的制作方法制作而成。

9.一種等離子顯示屏，包括：前基板、PDP放電電極和后基板，其特征在于，所述前基板包含權(quán)利要求8所述的介質(zhì)保護(hù)膜。