[發明專利]等離子顯示屏的制備方法及裝置

有效

• 申請號: 201110455663.9
• 申請日: 2011-12-30
• 公開（公告）號: CN102522287A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 曹瑞林
• 申請（專利權）人: 四川虹歐顯示器件有限公司
• 主分類號: H01J9/26
• 分類號: H01J9/26
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;余剛

1.一種等離子顯示屏制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在上基板和下基板的待封接面上涂覆粘結劑，并將所述上基板和下基板涂覆有所述粘結劑的一側朝上放置于密閉空間內；

對涂覆有所述粘結劑的上基板和下基板進行第一次升溫-降溫處理，并在所述升溫-降溫處理的同時對所述密閉空間進行第一次抽真空處理；

將降溫后的所述上基板翻轉180度，與所述下基板對合在一起，并對所述密閉空間進行第二次抽真空處理；

完成第二次抽真空處理后，向所述密閉空間內充入工作氣體；

對充入所述工作氣體后的所述上基板和下基板進行第二次升溫-降溫處理，使所述上基板與所述下基板封接在一起。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述第一次升溫-降溫的步驟重復運行1-3次。

3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述第一次升溫-降溫處理過程中，升溫到420℃～490℃，保溫25～58分鐘，降溫至360℃～400℃，保持3～7小時。

4.根據權利要求3所述的制備方法，其特征在于，所述第一次升溫-降溫處理過程中，降溫步驟以2～5℃/分鐘的速度進行降溫。

5.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述第一次抽真空處理過程中，所述密封空間的真空度為2.0×10^-4Pa～7.8×10^-4Pa；所述第二次抽真空處理過程中，所述密封空間的真空度為3.5×10^-3Pa～4.0×10^-3Pa。

6.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述密封空間內工作氣體的壓力為70kPa～80kPa。

7.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述第二次升溫-降溫處理過程中，升溫至430℃～480℃，保溫20～45分鐘，使上下玻璃基板封接后，降溫至25℃～40℃。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述第二次升溫-降溫處理過程中，升溫過程是以3～4℃/分鐘速度進行升溫。

9.一種等離子顯示屏制備裝置，其特征在于，包括：

箱體(1)；

安裝部(2)，設置在所述箱體(1)中，用以放置所述等離子顯示屏；

抽真空系統(3)，與所述箱體(1)相連通，用以對所述箱體(1)抽真空；

充氣系統(4)，與所述箱體(1)相連通，用以向所述箱體(1)中充入工作氣體；

加熱系統(5)，用以加熱放置在所述安裝部(2)上的等離子顯示屏。

10.根據權利要求9所述的制備裝置，其特征在于，所述安裝部(2)包括：

第一安裝部(21)，設置在所述箱體(1)中，用以放置所述等離子顯示屏的下基板；

第二安裝部(23)，設置在所述箱體(1)中，位于所述第一安裝部(21)放置空間的上部，所述第二安裝部(23)相對所述第一安裝部(21)具有遠離所述第一安裝部(21)的第一位置，以及靠近所述第二安裝部(21)的第二位置；

所述第二安裝部(23)位于所述第一位置時，所述第二安裝部(23)相對所述第一安裝部(21)可翻轉180度，所述第二安裝部(23)位于所述第二位置時，位于所述第一安裝部(21)上的所述下基板與位于所述第二安裝部(23)的上基板相接合。

11.一種等離子顯示屏，包括上基板和下基板，其特征在于，所述等離子顯示屏由權利要求1-8所述的制備方法制備而成，所述下基板不具有排氣孔。