[發明專利]使用金屬過孔(VIA)構成的電感設計無效
| 申請號: | 201110448996.9 | 申請日: | 2011-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN103187156A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 上海摩晶電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01F37/00 | 分類號: | H01F37/00;H01F41/00;H01L21/768 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 200235 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 使用 金屬 via 構成 電感 設計 | ||
【權利要求書】:
1.一種RF集成電路內部集成的電感設計,采用高密度的過孔連接兩層金屬,以形成高厚度的等效金屬層。
2.一種符合權利要求1的RF集成電路內部集成的電感設計,其特征是用過孔短路的上下兩層金屬當作一層使用。
3.一種符合權利要求1的RF集成電路內部集成的電感設計,其特征是用來短路的過孔采用最小間距。
4.一種符合權利要求1的RF集成電路內部集成的電感設計,其特征是用來短路的過孔允許條件下采用超寬設計。
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