[發明專利]硅烷涂布材料以及生產硅烷涂層的方法無效
| 申請號: | 201110445200.4 | 申請日: | 2007-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN102533103A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | S·賽皮爾;N·拉耶;C·瑟恩;G·施里克 | 申請(專利權)人: | 納米X有限公司 |
| 主分類號: | C09D183/04 | 分類號: | C09D183/04;C09D5/14;C09D5/08;C08G77/04 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 鄧毅 |
| 地址: | 德國薩*** | 國省代碼: | 德國;DE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅烷 材料 以及 生產 涂層 方法 | ||
1.生產硅烷涂層的方法,其特征是用反應物摻混一種或多種未預縮合或僅略微預縮合的硅烷,隨后將由此形成的涂布材料施涂至基底上并固化。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述硅烷的分子量大于200,尤其是大于300,優選大于500并且最優選大于1,000。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征是所述硅烷在有機側鏈中具有適于形成氫橋鍵的極性化基團。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述硅烷的蒸氣壓為在20℃下低于2,優選低于1并且最優選低于0.5hPa。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征是在固化之前,將所述硅烷與同系或非同系的硅烷或者與有機單體、低聚物或聚合物進行有機交聯反應。
6.根據權利要求5所述的方法,其特征是有機分子量大于無機分子量。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征是水含量最大值是5%,優選最大值是1%并且最優選反應在沒有水存在下進行。
8.根據權利要求1所述的方法,其特征是所述硅烷有最大5%,優選最大1%經預交聯并且最優選沒有經無機預交聯。
9.根據權利要求1所述的方法,其特征是作為反應物使用最多到20%,優選0.5至50重量百分比的路易斯酸或路易斯堿,尤其以過渡金屬絡合物,過渡金屬鹽或過渡金屬顆粒、優選微米顆粒或納米顆粒的形式使用。
10.根據權利要求9所述的方法,其特征是所述過渡金屬絡合物、過渡金屬鹽或過渡金屬顆粒是鈦、鋁、錫或鋯的絡合物。
11.根據權利要求1所述的方法,其特征是作為填料加入顆粒,尤其是微米顆粒、亞微米顆粒或納米顆粒。
12.根據權利要求1所述的方法,其特征是加入溶劑,尤其是醇、醋酸酯、醚或反應稀釋劑。
13.根據權利要求1所述的方法,其特征是加入去光劑、交聯分散劑、消泡劑、蠟、殺生物劑、防腐劑或有色顏料。
14.根據權利要求1所述的方法,其特征是向基底上濕化學涂覆涂布材料,特別通過噴霧、浸漬、流涂、輥涂、涂抹、壓涂、離心涂布、刮涂或通過真空蒸發進行所述涂覆。
15.根據權利要求14所述的方法,其特征是所述基底由金屬、塑料,陶瓷,漆,織物,紡織品,天然物質,例如木材或皮革,玻璃,礦物質或復合材料構成。
16.根據權利要求14所述的方法,其特征是涂布材料涂覆后在室溫至1,200℃,優選室溫至250℃的溫度下固化,其中所述固化優選以熱、用微波輻射或UV輻射來進行。
17.通過根據權利要求1-16所述的方法生產的硅烷涂層。
18.根據權利要求17所述的涂層作為耐劃傷、抗腐蝕、易清洗、抗指印、防反射、抗起霧、起皮防護、擴散屏障、輻射保護的涂層或作為自潔、抗菌、抗微生物、摩擦特性或親水的涂層的用途。
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C09D 涂料組合物,例如色漆、清漆或天然漆;填充漿料;化學涂料或油墨的去除劑;油墨;改正液;木材著色劑;用于著色或印刷的漿料或固體;原料為此的應用
C09D183-00 基于由只在主鏈中形成含硅的、有或沒有硫、氮、氧或碳鍵反應得到的高分子化合物的涂料組合物;基于此種聚合物衍生物的涂料組合物
C09D183-02 .聚硅酸酯
C09D183-04 .聚硅氧烷
C09D183-10 .含有聚硅氧烷鏈區的嵌段或接枝共聚物
C09D183-14 .其中至少兩個,但不是所有的硅原子與氧以外的原子連接
C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





