[發(fā)明專利]一種加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置及其方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110443451.9 | 申請日: | 2011-12-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103160933A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉朝軒;王晨光 | 申請(專利權(quán))人: | 洛陽金諾機(jī)械工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B35/00 | 分類號(hào): | C30B35/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 471009 河南省*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 加工 晶體 材料 坩堝 裝置 及其 方法 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及一種坩堝的加熱方法,具體地說本發(fā)明涉及一種加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置及其方法。
【背景技術(shù)】
在晶體材料中,多晶硅碎料拉制成為多晶硅棒或多晶硅轉(zhuǎn)換為單晶硅均需要使用坩堝,通過拉制或使用坩堝下降法使多晶生長為單晶;這個(gè)過程是在一個(gè)密閉的爐體內(nèi)完成的;以多晶硅為例,常規(guī)的方式是,在坩堝下部設(shè)置支撐體,由支撐體旋轉(zhuǎn)并帶動(dòng)坩堝同步旋轉(zhuǎn),在坩堝外部設(shè)置的加熱套直接對坩堝加熱,然后通過籽晶將坩堝內(nèi)的多晶硅拉制成為多晶硅棒;在這一過程中,受到坩堝與加熱套間距的限制,加熱套在對坩堝加熱中,坩堝四周的外緣面容易形成部分距離較近處較熱,其它相對于較熱部分的溫度較冷,這種環(huán)境下便會(huì)出現(xiàn)非均勻晶核,而且坩堝自身的旋轉(zhuǎn)還會(huì)出現(xiàn)坩堝內(nèi)的晶液難以保持一個(gè)平坦的固液交界面,拉制中便會(huì)出現(xiàn)晶震現(xiàn)象,使得拉制中獲取的晶棒出現(xiàn)明顯的不等徑,使得獲取的晶棒成品率較低;這也是決定晶體成品質(zhì)量的一個(gè)重要因素。
同理,藍(lán)寶石的加工方法包括提拉法、坩堝下降法、溫度梯度法、導(dǎo)模法、熱交換法、泡生法等,針對目前對藍(lán)寶石制備的方法,以上制備方法都采用支撐體旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)坩堝同步旋轉(zhuǎn)的方案,坩堝內(nèi)的藍(lán)寶石結(jié)晶過程受到微震使得結(jié)晶過程出現(xiàn)晶震現(xiàn)象而形成部分晶體錯(cuò)位,造成品質(zhì)下降。
【發(fā)明內(nèi)容】
為了克服背景技術(shù)中的不足,本發(fā)明公開了一種加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置及其方法,本發(fā)明通過在坩堝與加熱套之間設(shè)置旋轉(zhuǎn)的均勻溫度套,均勻溫度套對坩堝加熱,所述坩堝內(nèi)的晶液便可保持一個(gè)平坦的固液交界面,拉制中克服了現(xiàn)有技術(shù)的晶震現(xiàn)象。
為了實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明的目的,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,包括坩堝、加熱套和支撐體,在坩堝外部間隔設(shè)置有加熱套,加熱套的兩側(cè)分別連接有電極A和電極B,在所述坩堝下部設(shè)置有支撐體;在坩堝與加熱套之間設(shè)有均勻溫度套,所述溫度套通過動(dòng)力機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述電極A和電極B的其中一個(gè)為正極,另一個(gè)便是負(fù)極。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述加熱套的材質(zhì)為石墨、鎢或鉬的任意一種。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第一結(jié)構(gòu),在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊,外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽,在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán),所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接,所述吊桿上端與爐室上部內(nèi)壁連接,所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置,在托環(huán)的上部面上設(shè)有對應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽,外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體,在均勻溫度套的下端面上設(shè)有齒面,設(shè)置在爐室下部的支撐座上部通過動(dòng)力軸A的一端固定齒輪A,所述齒輪A與均勻溫度套下部面的齒面齒合,所述動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)另一替換結(jié)構(gòu),在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊,外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽,在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán),所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接,所述吊桿上端與爐室上部內(nèi)壁連接,所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置,在托環(huán)的上部面上設(shè)有對應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽,外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體,在均勻溫度套的上端面上設(shè)有齒面,設(shè)置在爐室上部的支撐座下部通過動(dòng)力軸A的一端固定齒輪A,所述齒輪A與均勻溫度套上端面的齒面齒合,所述動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第三替換結(jié)構(gòu),在均勻溫度套的上端外部設(shè)置外翻邊,外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形向上凹陷的圓弧槽,在外翻邊的下部設(shè)置托環(huán),所述托環(huán)的外部由至少三根吊桿連接,所述吊桿上端與爐室上部內(nèi)壁連接,所述托環(huán)的內(nèi)面與均勻溫度套的外部面間隔設(shè)置,在托環(huán)的上部面上設(shè)有對應(yīng)外翻邊圓弧槽的向下凹陷圓弧槽,外翻邊圓弧槽與托環(huán)的圓弧槽之間設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)滾動(dòng)體,在均勻溫度套的下部外緣面上環(huán)繞設(shè)有外緣齒面,設(shè)置在爐室下部的豎動(dòng)力軸B上的齒輪B與均勻溫度套的外緣齒面齒合,豎動(dòng)力軸B的下部外接動(dòng)力。
所述的加工晶體材料時(shí)對坩堝的均溫裝置,所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)第四替換結(jié)構(gòu),在均勻溫度套的下端外部設(shè)置下部外翻邊,下部外翻邊的下部面上設(shè)置環(huán)形槽,在爐室下部設(shè)有至少三個(gè)支撐座,所述支撐座上設(shè)有一個(gè)動(dòng)力轉(zhuǎn)輪,另外的支撐座上設(shè)置為轉(zhuǎn)輪且由軸連接,所述動(dòng)力轉(zhuǎn)輪和轉(zhuǎn)輪對應(yīng)下部外翻邊的環(huán)形槽,動(dòng)力轉(zhuǎn)輪和轉(zhuǎn)輪之間的間距為均勻設(shè)置,其中動(dòng)力轉(zhuǎn)輪通過動(dòng)力軸A的一端連接在支撐座上,動(dòng)力軸A的另一端外接動(dòng)力。
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