[發明專利]用于清洗和干燥晶圓盒的裝置及方法

有效

• 申請號: 201110436915.3
• 申請日: 2011-12-22
• 公開（公告）號: CN103170469A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 吳良輝
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02;F26B21/00
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，包括清洗腔、用于支撐若干晶圓盒的支架、外接清洗液源的清洗液噴管、排液管路及排氣管路，所述排液管路及所述排氣管路分別連接于所述清洗腔的底部，所述支架與清洗液噴管設于所述清洗腔內，其特征在于，所述用于清洗和干燥晶圓盒的裝置還包括外接干燥氣源的干燥氣體噴管，所述干燥氣體噴管設于所述清洗腔內。

2.根據權利要求1所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述用于清洗和干燥晶圓盒的裝置還包括加熱管，所述支架內設有用于容置所述加熱管的通孔，所述加熱管的上端固定于所述清洗腔的頂部。

3.根據權利要求2所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述用于清洗和干燥晶圓盒的裝置還包括驅動電機，所述驅動電機帶動所述支架轉動。

4.根據權利要求3所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述用于清洗和干燥晶圓盒的裝置還包括保護罩，所述保護罩位于所述通孔內且固定設置于所述加熱管外側。

5.根據權利要求1所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述清洗液噴管與所述干燥氣體噴管的數量分別是兩根，所述清洗液噴管與所述干燥氣體噴管等距離間隔設置于所述清洗腔的內壁。

6.根據權利要求5所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述清洗液噴管豎向設置，且所述清洗液噴管沿豎向均勻設有一排第一噴射口，所述干燥氣體噴管豎向設置，且所述干燥氣體噴管分別沿豎向均勻設有一排第二噴射口。

7.根據權利要求1所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述清洗腔的底部設有排氣孔，所述清洗腔經所述排氣孔與所述排氣管路連接。

8.根據權利要求7所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述用于清洗和干燥晶圓盒的裝置還包括擋液板，所述擋液板設置于所述清洗腔的底部且環繞設于所述排氣孔的四周，所述擋液板向所述排氣孔方向傾斜。

9.根據權利要求1所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述清洗液源與所述清洗液噴管之間的連接管路上依次設有第一氣動閥與第一流量計。

10.根據權利要求1～9中任意一項所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述干燥氣源與所述干燥氣體噴管之間的連接管路上依次設有第二氣動閥、第二過濾器與第二流量計。

11.根據權利要求10所述的用于清洗和干燥晶圓盒的裝置，其特征在于，所述第二流量計與所述干燥氣體噴管的連接管路上設有一條外接氮氣源的氮氣支路，所述氮氣支路上設有第三氣動閥、第三過濾器與第三流量計。

12.一種用于清洗和干燥晶圓盒的方法，所述晶圓盒放置于清洗腔內，其特征在于，包括如下步驟：

開啟清洗液一段時間，向清洗腔噴射清洗液；

關閉清洗液后，開啟干燥氣體一段時間，向清洗腔充入干燥氣體以干燥清洗腔；

關閉干燥氣體。

13.根據權利要求12所述的用于清洗和干燥晶圓盒的方法，其特征在于，在關閉清洗液后且在開啟干燥氣體前，先對清洗腔進行加熱一段時間，以烘干清洗腔。

14.根據權利要求13所述的用于清洗和干燥晶圓盒的方法，其特征在于，在對清洗腔進行加熱一段時間后且在開啟干燥氣體前，先開啟氮氣一段時間，向清洗腔充入氮氣以驅趕超純水水汽。

15.根據權利要求12～14中任意一項所述的用于清洗和干燥晶圓盒的方法，其特征在于，在開啟干燥氣體一段時間后，關閉干燥氣體，再開啟氮氣一段時間，向清洗腔充入氮氣以驅趕干燥氣體。