[發明專利]印刷掩模版無效
| 申請號: | 201110436108.1 | 申請日: | 2011-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN103176351A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發明(設計)人: | 魏志凌;高小平;張煒平;楊志龍 | 申請(專利權)人: | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/62 | 分類號: | G03F1/62 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 印刷 模版 | ||
技術領域
本發明涉及的一種印刷掩模板,屬于電路印刷領域。
背景技術
絲網印刷是將絲織物、合成纖維織物或金屬絲網繃?在網框上,采用手工刻漆膜或光化學制版的方法制作絲網印版。現代絲網印刷技術,則是利用感光材料通過照相制版的方法制作絲網印版(使絲網印版上圖文部分的絲網孔為通孔,而非圖文部分的絲網孔被堵住)。印刷時通過刮板的擠壓,使油墨通過圖文部分的網孔轉移到承印物上,形成與原稿一樣的圖文。絲網印刷設備簡單、操作方便,印刷、制版簡易且成本低廉,適應性強。
絲網印刷最早起源于中國,距今已有兩千多年的歷史了。早在我國古代的秦漢時期就出現了夾頡印花方法。到東漢時期夾頡蠟染方法已經普遍流行,而且印制產品的水平也有提高。至隋代大業年間,人們開始用繃有絹網的框子進行印花,使夾頡印花工藝發展為絲網印花。據史書記載,唐朝時宮廷里穿著的精美服飾就有用這種方法印制的。到了宋代絲網印刷又有了發展,并改進了原來使用的油性涂料,開始在染料里加入淀粉類的膠粉,使其成為漿料進行絲網印刷,使絲網印刷產品的色彩更加絢麗。
絲網印刷術是中國的一大發明。美國《絲網印刷》雜志對中國絲網印刷技術有過這樣的評述:“有證據證明中國人在兩千年以前就使用馬鬃和模板。明朝初期的服裝證明了他們的競爭精神和加工技術。”絲網印刷術的發明,促進了世界人類物質文明的發展。在兩千年后的今天,絲網印刷技術不斷發展完善,現已成為人類生活中不可缺少的一部分。
絲網印刷不僅適應一般的紙張印刷,而且適應性非常廣泛。例如:陶瓷、玻璃、印刷線路板等。根據承印物的質地不同,印刷時就不盡相同,雖然各個系列間有著密不可分的內在聯系,但因承印物質地不同(即化學性質和物理性質不同),各自又有其各自的特殊性。所以通常人們按承印物不同劃分為:紙張類印刷、塑料類印刷、陶瓷類印刷、玻璃類印刷、線路板印刷、金屬類印刷、紡織類印刷等幾大類。這樣就形成了各自的相對獨立的印刷系統。
電路板制作工藝之一,?是在已有負性圖案的網布上,用刮刀刮擠出適量的油墨(即阻劑),透過局部網布形成正性圖案,印著在基板的平坦銅面上,構成一種遮蓋性的阻劑,為后續選擇性的蝕刻或電鍍處理預做準備。這種轉移的方式通稱為“網版印刷”又稱“絲網印刷”。
隨著科技的發展,電路印刷、太陽能電極印刷等印刷工藝對相應印刷掩模板的要求越來越高,絲網感光膠結合的網板制作簡單,生產成本低,但是其印刷精度很難再進一步提高,制作高精密印刷掩膜板勢在必行。
目前,高精密掩膜板一般都需要通過一定方式固定在邊框上才能投入生產應用。在掩膜板的固定過程中,針對不同需要的掩膜板,其板面繃緊強度有所不同,過大的繃緊力容易造成掩膜板邊緣連接點脫落,導致局部受力不均,從而使掩膜板變形報廢。針對這一情況,業界一直致力于尋找各種簡單有效的方法。
發明內容
本發明要解決的技術問題是提供一種印刷掩模板,該掩膜板邊緣連接點不容易脫落,局部受力均勻,使用壽命長。
為了解決上述技術問題,本發明采取的技術方案如下:
一種印刷掩模版,包括基板、主柵線和細柵線,其特征在于,在掩模板的四周設有邊孔。
在掩膜版每條邊附近設有平行于邊的兩排邊孔。
所述每排邊孔與邊孔之間的距離相等。
所述的邊孔形狀為圓形。
所述掩膜版為金屬掩模版。
所述金屬掩模版為不銹鋼掩模版、鎳金屬掩模版或者鎳基金屬掩模版。
所述的掩膜版直接固定在網框上;所述的固定法方法為焊接法或者膠水粘貼法。
所述的掩膜版通過絲網繃緊后固定在網框上;所述的固定法方法為焊接法或者膠水粘貼法。
所述的絲網為聚酯絲網或者金屬絲。
優選的,所述掩膜版同時通過所述邊孔和膠水固定在網框上。
本發明涉及的掩膜板是通過用粘結力較強的膠水固定,邊孔處膠水能夠直接與掩膜板的固定對象相結合,如此結合方式使得掩膜板與其固定對象間結合更緊密。另外,大量按一定規律排列的邊孔可以保證掩膜板在繃緊受力過程中受力均勻。能夠解決掩膜板邊緣連接點脫落,局部受力不均,容易造成掩膜板報廢的問題。
附圖說明
下面結合附圖對本發明的具體實施方式作進一步詳細的說明。
圖1為印刷掩膜版示意圖;
圖2為通過絲網繃緊后固定在網框上的印刷掩膜版;
圖3為圖2局部放大圖;
圖中1為邊孔、2為印刷掩膜版的局部結構。
具體實施方式
實施例:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山允升吉光電科技有限公司,未經昆山允升吉光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110436108.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





