[發明專利]印刷掩模版無效
| 申請號： | 201110436108.1 | 申請日： | 2011-12-23 |
| 公開（公告）號： | CN103176351A | 公開（公告）日： | 2013-06-26 |
| 發明（設計）人： | 魏志凌;高小平;張煒平;楊志龍 | 申請（專利權）人： | 昆山允升吉光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/62 | 分類號： | G03F1/62 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215300 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 印刷 模版 | ||
【權利要求書】：
1.一種印刷掩模版，包括基板、主柵線和細柵線，其特征在于，在掩模板的四周設有邊孔。
2.根據權利要求1所述的印刷掩膜版，其特征在于，在掩膜版每條邊附近設有平行于邊的兩排邊孔。
3.根據權利要求2所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述每排邊孔與邊孔之間的距離相等。
4.根據權利要求1-3任一項所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述的邊孔形狀為圓形。
5.根據權利要求1-3任一項所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述掩膜版為金屬掩模版。
6.根據權利要求5所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述金屬掩模版為不銹鋼掩模版、鎳金屬掩模版或者鎳基金屬掩模版。
7.根據權利要求1-3任一項所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述的掩膜版直接固定在網框上；所述的固定法方法為焊接法或者膠水粘貼法。
8.根據權利要求1-3任一項所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述的掩膜版通過絲網繃緊后固定在網框上；所述的固定法方法為焊接法或者膠水粘貼法。
9.根據權利要求8所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述的絲網為聚酯絲網或者金屬絲。
10.根據權利要求1-3所述的印刷掩膜版，其特征在于，所述掩膜版同時通過所述邊孔和膠水固定在網框上。
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G03 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
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G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
